集成电路可靠性设计与评价
第九章9.2节集成电路可靠性评价
9.2、集成电路主要失效机理的可靠性评价9.2.3、金属互连线的电迁移9.2.4、PMOSFET负偏置温度不稳定性9.2.5、单粒子效应9.2.6、电离总剂量效应9.2.1、热载流子注入效应9.2.2、与时间有关的栅介质击穿
热载流子注入效应(HCI)载流子(如电子)在向界面障碍移动过程中获得能量,使其有足够的能量越过该障碍,导致逻辑高低电平间的状态差异减弱,最终造成MOSFET开关特性退化。
常使用“幸运电子模型”(LuckyElectronModel)对因热载流子注入导致的元器件故障率进行建模:其中,????????为与属
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