CN118919455A 一种半导体加工清理系统及方法 （浙江聚创新材料技术有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118919455A

(43)申请公布日2024.11.08

(21)申请号202411404543.X

(22)申请日2024.10.10

(71)申请人浙江聚创新材料技术有限公司

地址310000浙江省杭州市萧山区经济技

术开发区桥南区块鸿兴路401号3幢1

楼

(72)发明人周超超叶沛华汪日松王圣平

周斌

(74)专利代理机构北京沁优知识产权代理有限

公司11684

专利代理师张碧林

(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

H01L21/66(2006.01)

B08B15/04(200