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脉冲调制射频感性耦合氩气/氧气混合放电
的实验研究#
刘晓华,高飞,王友年**
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(大连理工大学物理与光电工程学院,大连 116023)
摘要:本文使用光探针对脉冲调制射频感性耦合等离子体放电特性进行了实验研究,放电气
体采用氩气/氧气混合气体。重点观察了 Ar 的 750.4 nm 和 811.5 nm 谱线强度与 O 原子的 777.4
nm 和 844.6 nm 谱线强度随氧气的含量、输入射频功率、脉冲占空比、脉冲重复频率、工作
气压等控制参量的变化规律。研究发现:Ar 和 O 原子的谱线强度随着氧气含量的增加先增
加后下降,随着功率、脉冲占空比的增加而单调的增加,然而随着脉冲重复频率变化不明显。
此外,将脉冲调制射频感性放电与射频感性放电的等离子体的参数进行了比较,结果显示,
脉冲调制后的等离子体参数的时间平均值的变化规律与射频感性放电的变化规律一致。
关键词:ICP;氩气/氧气混合气体;光探针;特征谱线强度;脉冲调制
中图分类号:O539
Experimental study of Argon/Oxygen in the
pulse-modulated inductively coupled plasma discharge
LIU Xiaohua, GAO Fei, WANG Younian
(School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology, Dalian
116023)
Abstract: In the Argon/Oxygen pulse-modulated inductively coupled plasma, we use optical probe
to diagnose the spectrum intensify of Ar and O atom. The spectrum intensify of Ar at 750.4 nm
and 811.5 nm has been obtained versus the content of Oxygen, the applied RF power, pulse duty
ratio, pulsed repeated frequency and pressure. The same measurement has been taken for O atom
spectrum at 777.4 nm and 844.6 nm. The results show that the spectrum intensity of Ar and O
atom increase firstly with the increasing of Oxygen content and decrease later, and the spectrum
intensity of Ar and O atom increases monotonically against the input power, and the duty
ratio. However, the changes of the spectrum intensity of Ar and O atom is not obvious with the
pulsed repeated frequency. In addition, under the same condi-tions, there is a comparison between
inductively coupled plasma and pulse-modulated inductively coupled plasma. The result shows
that the time-averaged spectrum intensify of pulse-modulated inductively coupled plasma is lower
than inductively coupled plasma.
Key words: ICP; Argon/Oxygen mixture gas; Optical probe; Characteristic spectrum line intensity;
pulse-modulated
0 引言
近二、三十年以来,等离子体在材料表面改性、刻蚀技术和薄膜沉积等领域有着越来越
重要的影响[1]。其中感性耦合等离子体(ICP)源具有工作气压低、等离子体密度高、大面积均
匀[2],并且能够实现等离子体密度和离子能量独立控制[3]等优点,而广泛用于半
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