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液晶マイクロアクチュエータの基礎研究
-ハイブリッド配向の場合の駆動特性-
知能流体力学研究室 田所俊昭
1. 緒 言 にするため,上部平板と電源との接続にはステンレス棒を介
現在,機械デバイスの小型化に伴い,アクチュエータのマ した点接触を採用した.また,上部平板の内側表面には垂直
イクロ化のニーズが高まっているが,実用的なマイクロアク 配向処理,下部平板の内側表面には平行配向処理(ラビング
チュエータの開発には至っていない.近年,液晶を駆動源と 処理)を施した.実験条件として,電圧 V=1~10V,デューテ
(1)
したマイクロアクチュエータが提案された . ィ比D=5%,周波数f =1~1000Hz のパルス波を入力した.
これまで,図 1(a)のような平行配向型液晶アクチュエータ
Liquid crystal Upper plate (free)Upper plate (free)
の研究が行われてきた.このアクチュエータは,平行配向処
Spacer
理を施した2 枚の平板間に液晶を充填した構造である.平板
Lower plate (fixed)
間に電場を印加すると,液晶分子は誘電異方性により分子の
長軸と電場方向が平行になるよう回転する.このとき平板間 Stainless bar
に誘起される液晶流動(背流)により,上部平板が駆動する. Electrode
しかし,平行配向を得るためには,高分子膜の成膜後,ラビ
ング処理(高分子膜表面を擦ることで,液晶分子を規則的に Fig2. Experimental setup
配向させる手法)を施す必要があり,極小領域でこの処理を
行うことは極めて困難である.平行配向処理の代替手法とし 3. 実験結果および考察
て垂直配向処理が挙げられる.垂直配向処理は,垂直配向剤 図3 にf =10Hz におけるハイブリッド配向型および平行配
の塗布のみで配向能を得る手法であり,ラビング処理が不要 向型における印加電圧V に対する上部平板の駆動速度U を示
なため,微細な領域に対しても施すことができる.しかし, す.図中の各プロットは 10 回の実験データの平均値とエラー
図1(b)のように,上下平板ともに垂直配向処理を施した場合, バである.平行配向型の場合,V=4V から上部平板が駆動し,
電場印加方向と液晶分子の初期配
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