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第 23 卷第 6 期 云南师范大学学报 V o l. 23 N o. 6
2003 年 11 月 Jou rnal of Yunnan N o rm al U n iversity N ov. 2003
扩展光源照射下双缝干涉现象研究
张永炬, 林新源
( 台州学院物理系, 浙江 临海 317000)
摘 要: 给出了符合实际实验参数的扩展光源照射下双缝部分相干干涉光强分布函数, 运用便捷的
M A TLAB 语言和引进的 PA SCO 实验系统分别获得光强分布理论曲线和实验曲线, 并对部分相干干涉
光强分布规律和可见度进行了讨论。
关 键 词: 扩展光源; 双缝干涉; 光强分布; 可见度
( )
中图分类号: 43 文献标识码: 文章编号: 1007- 9793 2003 06- 0055- 03
O A
虽然人们早已用较完善的理论和许多典型的 缝距为 , 双缝与观察屏的距离 = 1000 ,
d S mm M
实验研究了光的相干现象, 但在光学课程教学中, 是高灵敏电传感器, 它与旋转运动传感器及计算
人们一般只着重讨论理想的点光源、线光源或面 机系统组合可以测量记录光强分布曲线。
光源在光学系统中的相干行为; 过去由于理论计 实际情况中, 照射双缝的初级光源S 往往是
算繁复和实验条件的限制, 对实际的扩展光源的 非完全相干的。假设照射双缝的是一个垂直于纸
部分相干行为讨论较少。本文运用扩展光源上微 面由波长 = 670nm 半导体激光器发出的激光扩
(
分线元对观察平面辐照度贡献迭加的基本思想, 展光源 有一定线度的激光束照射双缝时作这样
)
得到符合实际实验参数的光强分布函数, 并用便 的假设是可行的 , 我们可以从计算一个平行双缝
捷的M A TLAB 语言和引进美国的 PA SCO 物理 的非相干连续扩展线光源对辐照度的贡献获得理
实验系统获得光强分布理论曲线和实验曲线, 进 论上的光强分布。根据图 1, 光源上每个微分线元
而更直观地分析部分相干现象。 d a 产生对应着 2 上以它的象 d l 所在的位置 l 为
1 扩展光源照射下干涉现象的描述 中心的一组条纹系, d a 对应 2 上的条纹系在
我们考察扩展光源照射下杨氏双缝系统的干 P (y ) 处的辐照度贡献为[ 3 ] :
涉现象, 实验装置原理如图 1 所示。图中
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