溅射功率对沉积纳米TiO2织物光催化性能的影响.pdfVIP

第 32卷 第 10期 纺 织 学 报 VO1．32．NO．10 2011年 10月 JournalofTextileResearch 0ct．．20l1 文章编号 ：0253—9721(2011)tO一003l一06 溅射功率对沉积纳米 TiO2织物光催化性能的影响 徐 阳，魏取福 ，邓炳耀 (生态纺织 (江南大学)教育部重点实验室 ，江苏 无锡 214122) 摘 要 室温条件下采用直流磁控反应溅射技术在涤纶纺黏非织造织物表面生长二氧化钛 (TiO)薄膜 。采用 x 射线光电子能谱仪、x射线衍射仪和原子力显微镜对不 同溅射功率条件下所制备 TiO 薄膜 的结构和表面形貌进行 表征 ，研究溅射功率对薄膜沉积速率以及沉积纳米 TiO 织物光催化性能的影响。实验表明：在一定范围内，溅射 功率对沉积薄膜的化学结构影响不大 ；溅射功率增加 ，薄膜 的沉积速率和溅射效率提高，薄膜均匀性 、致密性增加 ， 沉积纳米 TiO，织物 的光催化性能提高 ，但过高 的溅射功率使靶材 出现过温 ，不仅使薄膜沉积速率 降低 ，均匀性下 降 ，而且易损伤靶材 。 关键词 直流反应磁控溅射 ；功率 ；纳米 TiO，；涤纶 ；纺黏非织造织物 ；光催化 中图分类号 ：TS174 文献标 志码 ：A Effectsofsputteringpoweronph0tocatalyticpropertiesof TiO2deposited fabrics XUYang，WEIQufu，DENGBingyao (KeyLaboratoryofEco—Textiles(JiangnanUniversity)，MinistryofEducation，Wuxi，Jiangsu 214122，China) Abstract Nanoscaletitanium dioxide(TiO2)functionalfihnswereprepared011thesurfaceofspun— bondednonwovenpolyesterfabricatroom temperaturebyDC reactivemagnetronsputteringprocess．The surfacemorphologyandthestructuralpropertiesofTiO2filmsdepositedunderdifferentsputteringpowers werecharacterized by X—ray photoelectron spectroscopy，X—ray diffraction and atomicforce microscopy． Thedepositionrateandphotocatalyticpropertiesofthefabricswith TiO2filmspreparedunderdifferent sputteringpowerswereanalyzed．The testresultsshowed thatasthesputteringpowerincreasedwithin a certainrange，thedepositionrateandsputteringefficiencyincreased，theuniformityandcompactnessof theTiO2filmsimproved，andthephotocatalyticactivityofthepolyesternonwovenfabricwithTiO2fihns enhanced，with littleinfluenceonchemicalstructureoftheTiO2films．However，ifthesputteringpower wastoo high， itcould lead to notonly overheating and damage o