大角度离子注入机的束流自动调节.pdfVIP

■ 电 子 工 业 毫 用 设 备 ． 半导体制造与设备 · 大角度离子注入机的束流 自动调节 王迪平，孙 勇 f中国电子科技集 团公司第 四十八研究所 ，湖南 长沙4101l1) 摘 要 ：阐述 了大角度离子注入机 的束流 自动调节，着重描述 了新建立菜单的第一次调束 ，从束 流的引出到 固定法拉第杯获得 目标束流的具体调节步骤 ，包括束流的均匀性检测的全部过程 ，另 外对调束过程中的一些算法也进行 了细致的介绍 。 ： 关键词 ：大角度离子注入机 ；自动束流调节 ；菜单 ；固定法拉第杯 ；均匀性 中图分类号 ：TN305．3 文献标识码 ：B 文章编号 ：1004—4507(2010)09-0017—06 TuningBeam W ith Automation OfTheLarge TiltIonImplanter W ANG Diping，SUN Yong fThe46thResearchInstitute，CETC，TianJin300220，China) Abstract：Thispaperexpoundsthetuningbeam withautomationofthelargetiltionimplantercontrol system，inparticular,expatiatesthefirsttuningbeam forthenew recipe，in detailliststhematerial tuningstep from extractingbeam togetingthetargetbeam atthesetup faraday，includethattheall processhow tocheckthebeam uniformity，otherwise，Speciallyintroducesseveralarithmeticinbeam process． Keywords：Thelargetiltionimplanter；Tuningbeam withautomation；Recipe；Setupfaraday；Unifomr ity 离子注入技术是一项标准且被商业接受的技 达到最优化的传输路径。 术，通过对半导体 晶片掺杂改变它们的传导性 。注 通常的离子注入束流调节是一个时间消耗的 入制造过程 中的精度、注入深度、剂量均匀性及表 过程。最开始是在程序 中设定预定的参数，得到注 面污染损害等都是有限制的。在半导体晶片上形成 入 的近似值 。一但调节不同离子注入机部件参数 所需物质 ，需要注入不 同的深度 ，不 同深度所 需的 时，就需要熟练的操作者来优化完成调节过程 。这 粒子束能量也不同。对不同的工艺配方，需要用不 个过程将花去一个有经验的调试者 5～3Omin的 同种类的离子、不同的能量和不同的剂量分几步注 时间，相应 的时间是不可避免的，例如，在大磁铁 的 入 。离子束的参数也是随各个时间段而改变的。例 调节上，需要一个长时间的稳定过程 ，还会产生磁 如 ，当离子束的能量改变时，就要调节离子注入机 滞现象 。 自动调节技术也被应用 ，可惜并不 比手动 收稿 日期 ：2010—08．10 电 字 工 业 董 用 设 苗 · 半导体制造与设备 · 调节快。束流调节技术 已经成为提高离子注入机生 行优化调束，工艺数据能实时处理，最终获取高 产率 的障碍 。 品质束流 。 针对 以往