一维矩形刻槽相位栅的减反特性与结构优化.pdfVIP

第 32卷 第 5期 应 用 光 学 Vo1．32No．5 2011年 9月 JournalofAppliedOptics Sep．2011 文章编 号 ：1002—2082(2011)05—0971～05 一 维矩形刻槽相位栅的减反特性与结构优化 马志博 ，忽满利 ，李文慧，廖春艳，赵 佩 (西北大学 物理学系，陕西 西安 710069) 摘 要 ：为了得到一种结构简单 、便于制作的可应用于可见光波段 的减反射膜，利用等效介质理 论研究了表面具有矩形刻槽周期分布形式的介质膜 的减反射特性，比较 了4种不 同基底材料的 减反特性 ，选用聚 甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)作为基底分析 了一维单层矩形光栅结构的减反射膜 的 占空比、蚀刻深度、入射波长和入射角度对减反射特性的影响 ；给 出了可见光波段 的减反射膜 的结构设计参数。研究结果表明：当入射角小于3O。时，可见光 中的短波段 (0．4 m～0．55 m) 反射率低于 2 ；当入射角小于 10。时，该减反射膜可以使 0．4 m～0．8 m可见光的反射率低 于 2 。 关键词 ：光栅 ；减反射膜；等效介质理论 ；矩形刻槽 ；占空比；蚀刻深度 中图分类号 ：TN204；0484．4 文献标 志码 ：A Designandoptimizationofanti—reflection coatingwith thestructureof one—dimensionalrectangulargroovephasegrating MA Zhi—bo，HU M an—li，LIW en—hui，LIAO Chun—yan，ZHAO Pei (DepartmentofPhysics，NorthwestUniversity，Xi’an710069，China) Abstract：A kindofanti—reflection (AR)coating with simplestructureapplicable invisible bandswasdesigned．ThecharacteristicsoftheAR—coatingswereinvestigatedbyusingtheef— fectivemedium theory (EMT)．Theantireflectivecharacteristicsof4differentsubstratemate— rialswerecomparedandthepolymethylmethacrylate (PM MA)waschosen forsubstrateto analyzetheinfluencesofthedutycycle，etchingdepth，incidentwavelengthandincidentangle onthereflectivityofthegroovephasegrating．A setofparametersinthevisiblewavebandof 1ightaregiven．Theresearchresultsshow thatthereflectivityislessthan2％ inthewaveband from 0．4 m to0．55 m attheincidentanglelessthan30。；thereflectivityislessthan2％ in thewavebandfrom 0．4 m to0．8 m attheincidentanglelessthan 10。． Keywords：gratings；anti～reflectioncoatings；effectivemedium theory；rectangulargroove；du— tycycle；etchingdepth 引言 的发展，传统的制作方法主要有两种 ：单层膜法和