低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响.pdfVIP

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2017-09-12 发布于江西
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第24卷第2期无机材料学报 V01．24，No．2 of Mar．，2009 2009年3月 JournalInorganic：Materials 文章编号：1000-324X(2009)02-0392-05 低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响吴恒，李贺军，王永杰，付前刚，何子博，魏建锋 (西北工业大学炭／炭复合材料工程技术研究中心，西安710072) 究r沉积温度对MoSt，涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响．研究结果表明：在 1100～1200。C下制备的涂层结构致密，由单一MoSi：组成，沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为增加的趋势；当沉积温度高于1200。C，涂层出现开裂现象，由游离si和MoSt：两相组成，涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势．1100。C以下沉积的主要控制步骤为si与Mo反应，而l100C以上si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用．关键词：LPCVD；MoSt，涂层；微观结构；性能；沉积温度中图分类号：TB332 文献标识码：A Effectof onMicrostructuresand of DepositionTemperature PropertiesMoSi2 Chemical LowPressure VaporDeposition CoatingsPreparedby WU Zi—Bo，WEI He—Jun，WANGYong—Jie，FUQian—Gang，HE Jian—Feng Heng，LI Research 710072，China) (C／CCompositesTechnologyCenter，NorthwesternPolytechnicalUniversity，Xi’an were onMosubstrateslow chemical Abstract：MoSt2coatingsprepared by pressure vapordeposition and assource the from1000。Cto1300。12．Effectof (LPCVD)usingSiCl4 H2 gases，intemperaturerange onthe rates， microstructures，phasecomposition，depositionprocess，deposition depositiontemperature andthe andMOmatrixwerestudied．ItiSindicatedthatthe hardness between bondingstrength coatings 1 100。C 1200。C of inthe from to are