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河南化工
· 30 · HENANCHEMICAIINDUSTRY 2011年 第 28卷
·开发与研究 ·
氩流体汽液界面特性的平衡分子动力学模拟
王宝和 ,雷广平 ,何昌斌 ,刘延来 ,王 刚
(大连理工大学化工学院 ,辽宁 大连 116024)
摘 要:采用L—J模型,对氩流体汽液界面特性进行了平衡分子动力学模拟,得到了密度、界面张力等参数的分布
规律。模拟结果表明,随着氩流体体系温度的提高,液相主体密度和界面张力逐渐减小,汽相主体密度和界面厚度
逐渐增大;随着截断半径的增大,界面张力逐渐增大,汽相主体密度及界面厚度稍有减小,液相主体密度稍有增大;
随着模拟分子数的增加,界面张力、界面厚度及液相主体密度都稍有增大,而汽相主体密度稍有减小。
关键词:分子动力学 ;氩流体 ;模拟 ;汽液界面
中图分类号:0643.1 文献标识码 :A 文章编号:1003—3467(2011)17—0030—04
Equilibrium M olecularDynamicsSimulationofLiquid——vapor
Interfacef0rArgonFluid
W ANG Bao—he ,LEIGuang—ping ,HE Chang—bin ,LIU Yan—lai,W ANG Gang
(SchoolofChemicalEngineering,DalianUniversityofTechnology,Dalian116024,China)
Abstract:Equilibrium moleculardynamicssimulationsareperformedusingtheLennard—Jonespotential
modeltostudytheliquid—vaporinterfacecharacteristicsofargon,andthedistributionrulesofvapor—
liquidinterfacecharacteristicsparametersareobtained.Thesimulation resultdemonstratesthatwithim—
provingthetemperature,thedensityofliquidbulk andtheinterfacial tensiondecreasegradually,butthe
inteffacialthicknessandthedensityofgasbulkincreasegradually.Thedensityofliquidbulkandthein—
terfacialtension increasegradually.andtheinterfacialthicknessaswellasthedensityofgasbulkde—
creasegraduallywithincreasingthecut一0ffradius.Withincreasingthesimulationmolecularnumber.the
interfacialtensionandtheinterfacialthicknessaswellasthedensityofliquidbulkincreaseslightly.how.
ever,thedensityofgasbulkdecreasesslightly.
Keywords:moleculardynamics;argonfluid ;simulation ;liquid—vaporinterface
汽液界面行为是研究相变传热问题的基础和重 采用直角坐标系0xyz,模拟盒如图1所示,液相
点。汽液界面是几个到十几个分子直径厚度的区
域,如此小的几何尺度给试验研究带来很大困难。
采用分子动力学模拟方法,从分子水平揭示流体汽
液界面特性的研究,引起了国内外许多学者的极大
界
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