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CdTe多晶薄膜的制备及后处理研究
凝聚态物理 专业
研究生 夏庚培 指导教师 郑家贵 教授
CdTe具有良好的光电学性质和化学性质,因此成为制备高效率、低成本的
多晶薄膜太阳电池理想的吸收层材料。然而,制备高效CdTe/CdS多晶薄膜太阳
电池的关键之一是要获得高质tI的CdTe多晶薄膜。于是,本文针对CdTe薄膜,
研究了其制备工艺和后处理条件对薄膜结构、光电学性质及CdTe太阳电池性能
的影响:
系统研究了源温度,衬底温度,环境气压与沉积速率的关系:用XRD,AFM
等测试分析手段,研究了在不同气压下沉积的薄膜结构的变化;通过Hall效应
的测量,计算了CdTe多晶薄膜的电阻率,载流子浓度及迁移率与温度的关系。
分析得出,较高的沉积气压下较为合适的沉积条件为:衬底温度540-5801C,
源温度6300C,此时的沉积速率为1一1.4um·min-.薄膜均匀、致密:结晶状
况较好的衬底上沉积的CdTe薄膜质量较好:刚沉积的CdTe薄膜晶格常数随沉
积气压升高变大。Hall效应测试表明,CdTe多晶薄膜的电阻率随着温度的升高
呈单一下降趋势.在20-80K范围内面电阻率随温度的升高下降较快,80-300K
范围内下降较慢。
在不同气氛 (氮、氧)下对CdTe薄膜进行CdC12后处理,研究了薄膜结构
和光学性质的变化,讨论了氧在CdC12后处理过程中的作用。用AFM观察处理
前后CdTe薄膜的表面形貌,发现在退火后CdTe薄膜表面出现了均匀分布的小
颗粒,这些小颗粒直径在100nm左右,而这一现象在过去做的扫描电镜 (SEM)
表面形貌照片里未发现:用SEM进行断面观察衬底US薄膜在退火过程的消耗
情况,发现在氧气氛中退火的样品CdS薄膜的消耗较多,而在氮气氛中退火的
样品则较少,这表明后处理过程中加入认对CdTe/CdS界面的互扩散有相当的促
进作用:CdTe薄膜光能隙主要由制备工艺决定,经过不同气氛下后处理后,变
化不大。
研究了退火气氛对电池性能的影响。太阳电池J-v曲线的测试结果表明,
用经过后处理的CdTe薄膜制备的电池性能较好,而有氧气氛下后处理的样品性
能要比纯氮气氛后处理的好。不同氧气氛下后处理的样品的性能差别不是很大.
关键词:CdTe薄膜、太阳能电池、CdCl:后处理
Studyofdepositionandannealingof
CdTepolycrystallinethinfilms
SpecialityCondensedphysics
PostgraduateXiaGeng-pei TutorZhengJia-gui
Owingtoitsoptoelectronicandchemicalproperties,CdTeisanideal
absorber material for high-efficiency, lowcost thin film
polycrystalline.However,akeyfactoroffabricatinghigh-efficiency
CdTeiCdSsolarcellsisgaininghigh-qulitypolycrystallineCdTethin
films.Therefore,Thethesishas investigated thestructuraland
optoelectroniccharacteristicsofCdTepolycrystallinethinfilms,
theperformanceofCdTesolarcells,andtheinfluenceoftheirdeposition
andannealingprocess:
Thedepositionratedependenceofsourceto呻erature、substrate
temperatureanddepositionpressurehasbeenstudiedsystematically.
AccordingtotheresultsofXRDandAN images,thestructuralchanges
oftheM ethinfilmsdepositedindifferentpressurehaveb
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