直流反应磁控溅射在氮化的蓝宝石衬底上制备AlN薄膜(英文).pdfVIP

直流反应磁控溅射在氮化的蓝宝石衬底上制备AlN薄膜(英文).pdf

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第33卷 第2期 发 光 学 报 Vo1.33 No.2 2012年 2月 CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE Feb . 2012 ArticleID:1000—7032(2012)0243227—06 DepositionofAIN FilmsonNitridedSapphireSubstratesby ReactiveDC M agnetron Sputtering WANGXin—jian ,SONGHang ,U Da—bing,JIANGHong,LIZhi—ming MIAO Guo—qing’ , SUNXiao。juan ,CHENYi—Fen一,JIAHui, (1.StatekeyLaboratoryofLuminescenceandApplications,Chang~h‘unInstituteofOptics,FineMechanicsandPhysics, ChineseAcademyoj’Sciences,Changchun130033,China; 2.GraduateUniversityo,’ChineseAcademyofSciences,Bering100039,China) CorrespondingAuthor,E—mail:songh@ ciomp.ac.Cn Abstract:Aluminumnitride(A1N)filmswerepreparedsuccessfu]lyonsapphireandnitridedsapphiresubstrates byreactiveDC magnetronsputtering.TheeffectofnitridationofsapphiresubstrateonthegrowthofA1N filmswas studied.ThefilmswerecharacterizedbyX—raydiffraction(XRD),atomicforcemicroscopy(AFM)andopticalab— sorptionspectrum.XRDpatternsofA1Nfilmsexhibitedastrongpreferentialc—axisorientation,andnitridationofsap— phiresubstratecouldimprovethecrystalqualityofA1Nfihnsandalsodecreasetheresidualstressoffilms.ButAF’M resuhSrevealedthatthegrainsizedistributionoffihnsdepositedODnitridedsapphiresubstrateswasnot)notehomoge— nousthanthatoffilmsdepositedonsapphiresubstrates,andopticalabsorptionrestlItsalsoshowednitridationofsap— phiresubstratenearlyhadnoeffectontheopticalbehaviorofAINfihns. Key words:crystalstructure;opticalabsorption;surfacemorphology CLC number:076 Documentcode:A DOI:10.3788/fgx0227 直流反应磁控溅射在氮化的蓝宝石衬底上制备AIN薄膜 王新建 ,宋 航 ,黎大兵 ,蒋 红 , 李志明 ,缪国庆 ,孙晓娟 ,陈一仁 ,贾 辉 (1.发光学及应用国家蕈点实验室 中国科学院长春光学精锵机械与物理研究所,吉林 长春 130033

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