生产制备真空镀膜材料的方法与关键.pdfVIP

E×CHANGEI技术交流 生产制备真 空镀膜材料 的方法与 关键 侯印春 上海特旺光 电材料有限公司 ，上海 201800 E—mail：ychou@saom．com．an 1引言 着高纯靶材和高纯气体制备技术的发展，溅射镀膜技 镀膜技术的发展可以追溯到 l8世纪末 ，但真空 术飞速发展 ，在多元合金薄膜 的制备方面显示出独到 镀膜技术是从 20世纪 30年代才开始崛起 。1930年 ， 之处，主要溅射方法有：直流溅射 、射频溅射、磁控溅 由油扩散泵和旋片机械泵组成的真空机组为真空镀 射和反应溅射 。在溅射装置内配以离子束源以及在衬 膜技术的发展推波助澜。真空镀膜发展初期 ，由于所 底上施加偏压等方法使溅射方法不断推陈出新 ，以适 用材料种类繁多，用户分散 ，用量甚少 ，所以无法形成 应对薄膜材料瞬息万变的需求。此外 ，人们又综合蒸 镀膜材料的商品化生产 。我国从事镀膜科研和镀膜技 发法和溅射法两种方法 的优缺点，取长补短 ，发展出 术 的科技人员也只是根据 自身工作的需要 ，开发所用 一 些新的方法，如离子镀和离子束辅助沉积等。由于 材料 ，镀膜材料 只是镀膜科技人员 “自留地”上 的产 这些方法嫁接两种方法 的优点，不能简单地划分这类 物。20世纪 80年代 ，国外大型镀膜企业进入我国。随 方法 的归属 ，但他们仍然属于物理气相沉积方法 。 着材料用量的增加 ，国外材料厂商开始在我 国寻找合 3生产蒸发镀膜材料的主要方法 作伙伴或代理经销商，真空镀膜材料终于在我国活跃 3．1机械加工 起来。21世纪初 ，真空镀膜材料在我国开始大规模生 机械加工是利用已有 的原材料 ，通过破碎 、切割 、 产 ，并形成一定规模 的市场。 球磨等机械加工获得所需形状的蒸发镀膜材料 。如 2蒸发材料与溅射靶材 SiO 破碎颗粒 、切割圆柱形颗粒 、圆片、石英珠 、石英 环，20。晶体颗粒等。 真空镀膜材料也被称为真空镀膜用 “源物质”，主 要分为两类 ：一是真空蒸发法镀膜用的源物质：蒸发材 料 ，二是真空溅射法镀膜用源物质 ：溅射靶材 。真空蒸 发法和真空溅射法均属于物理气相沉积(PVD)法。与 物理气相沉积方法相应的，还有化学气相沉积 (CVD) 法 。化学气相沉积法成膜用源物质多为气态物质 ，本 一一 文不予讨论 。 SiO。圆柱颗粒 SiO 小球 真空蒸发法是在真空条件下，用蒸发源加热蒸发 材料 ，使之蒸发或升华进入气相 ，气相粒子流直接射 向基片并在基片上沉积或结晶形成固态薄膜。真空蒸 发镀膜是发展较早的镀膜技术，其设备相对简单，沉积 速度高，膜层纯度高，应用相当广泛。按蒸发源不同，蒸 发法主要有：电阻加热蒸发 、电子束蒸发 、电弧蒸发和 激光蒸发等。 一一 真空溅射法是物理气相沉积法中的后起之秀。随 。O。晶体颗粒 石英环 中国光学期刊网 WWW ．opticsjourna1．net121 EXCHANGEI技术交流 求。二是习惯要求，一名技术人员长期