活性端基PS表面修饰膜的制备与摩擦学性能.pdfVIP

第 期 高 分 子 学 报 % AT ,% 年 月 !! # ， :ER: 8C0Y7ZOGE: 9GAGE: C?K , !! 活性端基聚苯乙烯表面修饰膜的制备与摩擦学性能! 周 峰 李 斌 陈 淼 刘维民!! （中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室 兰州 )* ） 摘 要 以巯丙基三甲氧基硅烷为链转移剂，利用自由基聚合反应合成了三甲氧基硅烷封端的聚苯乙烯，研 究了其在单晶硅基底上的自组装行为，并用红外、射线光电子能谱、原子力显微等对膜进行了表征 研究发 + , 现，聚合物的浓度大于# -./ -0 时才能形成较完整的聚合物膜，均方根粗糙度低于# 1-，自组装过程在 2 时 内即可完成 与空白基底相比，自组装聚苯乙烯膜具有良好的减摩抗磨性能，稳定摩擦系数为 # 3 , 4 #! , 关键词 自组装聚合物膜，聚苯乙烯，链转移反应，摩擦学 分子自组装利用自组装分子与基底间形成化 醇重结晶* 次，自然晾干；甲苯经钠丝回流，减压 学键来构造有序、紧密堆积的界面层，是目前人们 蒸馏；单晶硅片（ ），单面抛光；其它试剂均为常 ### 所广泛关注的一个多学科交叉领域，由其设计、制 用, ［］ 备的功能性表面已经引起了人们的极大兴趣 # , !# 自组装聚合物的合成 但多数集中于短链分子的自组装，聚合物自组装 苯乙烯、 无水甲苯、 % 4! . % -0 4’! . :GHA 的研究较少, 目前，制备自组装聚合物膜主要通过 和 45 . 789 混合，除氧，氮气保护下( 2 聚合 ［］ 离子对沉积! ，但该方法局限于离子化聚合物的 ，产物经甲苯溶解 无水甲醇沉淀纯化 次，真 !5 3 $ * 组装，应用受到一定的限制 利用短链分子自组装 空干燥，产率为#@ , , 原理，在聚合物中引入反应性官能团，与底材表面 !$ 自组装膜的制备 形成共价键是提高聚合物膜机械强度的有效手 单晶硅片置入体积比为) I * 的浓硫酸/ * @ ［］ * 过氧化氢混合液中， 保温 ，将基片取出， 段 ，活性官能团的存在并不影响聚合物的本体 2 # 3 性质，利用此方法可以拓展聚合物自组装的范围,