Unity3D之Lightmap详解_使用烘焙贴图_场景技巧.docVIP

Unity3D之Lightmap详解_使用烘焙贴图_场景技巧.doc

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Unity3D之Lightmap详解 作者:李志健   Unity 完全集成了光照贴图,可以通过编辑器创建完整的光照贴图,你完全不用担心,所有材质会自动获得光照贴图。光照贴图的意思是,所有灯光的特性将被直接映射到Beast lightmapper并烘培到纹理,以此获得更好的性能。UnityPro版扩展了全局光照功能,可以烘焙出真实而漂亮的光照,当然这就不能同时使用实时光照。此外,Unity专业版带给你天光和发光材质,为你增加更有趣的场景照明。   在此页中,你会发现更深入的描述,可以找到在Lightmapping窗口的所有属性。从菜单中Window – Lightmapping打开Lightmapping窗口。 物体   物体的烘培设置:灯光、网格渲染和地形 - 取决于当前的选择。 网格渲染器和地形: ·Static 静态 可渲染网格和地形必须标记为静态才能被烘培。 ·Scale In Lightmap 光照图比率 (只作用于可渲染网格)特别大的数值将分配给可渲染网格更大的分辨率。最终分辨率比例(光照图缩放)*(物体世界坐标空间所占面积)*全局分辨率烘培设置)如果设置为0物体将不被烘培。(但是它依旧对其他的物体有影响) ·Lightmap Size 光照图大小 (只作用于地形)光照贴图尺寸是地形实例独有的属性,地形将不和其他物体共用图集。地形光照贴图将存贮在一个单独的文件中。 ·Atlas 图集 图集信息-如果Lock Atlas(锁定图集)选项没有开启那么这些参数将自动更新。如果Lock Atlas(锁定图集)选项开启,这些参数将不会自动编辑。但是你可以手动设置他们。 ·Lightmap Index 光照图索引 光照贴图序列中的索引。 ·Tiling 平铺 (只作用于可渲染网格)物体光照贴图UVs平铺。 ·Offset 偏移 (只作用于可渲染网格)物体UVs的偏移。 Lights 灯光: ·Lightmapping 光照贴图 光照图模式:仅实时模式,自动模式和仅烘培 模式。查看下面Dual Lightmaps的描述。 ·Color 颜色 灯光颜色。一些属性只作用于实时光照。 ·Intensity 光强度 灯光照明强度。一些属性只作用于实时光照。 ·Bounce Intensity 反弹强度 特定光源间接光照强度的倍增值。 ·Baked Shadows 烘焙阴影 控制当前灯光是否产生阴影。(当选择自动选项时同时影响实施阴影的产生) ·Shadow Radius 阴影半径 (只作用于点光源和聚光灯)增加这个值将得到一个较柔和的阴影。增加这个值的大小影响阴影覆盖面积范围的计算(不会影响到灯光照射范围)。 ·Shadow Angle 阴影角度 (只影响平行光)增加这个值将会得到一个比较柔和的阴影-增加灯光阴影覆盖角度范围的计算。(不会影响到灯光照射范围) ·Shadow Samples 阴影采样 如果你将阴影半径或者角度设置为大于0的值,增加阴影采样值能得到一个比较好的结果。高采样值将消除半影中中的噪点。 Bake 烘焙   全局烘焙设置。 ·Mode 模式 控制离线烘培和实时光照模式。在Dual Lightmaps 模式下近端和远端光照图都将被烘培;只有延迟光照渲染方式式才能更好的支持双重光照图。Single Lightmaps 模式仅烘培远端光照图。在延迟渲染方式下也可以强制使用单光照图模式。 ·Use in forward rendering 使用正向渲染 (Dual lightmaps only) 在正向渲染中启用dual lightmaps。要注意的是这需要你创建自己的shader来达到目的。 ·Quality 质量 高质量(比较好的效果)和低质量(计算速度快)的预设值。它们将影响最终聚集光线数量和对比度的数值以及其他有关最终聚集和抗锯齿的设置。 ·Bounces 反弹 控制全局光照模拟中光线反弹的次数。如果想得到一个比较柔和的相对真实的光照至少需要将此数值设置为1.如果设置为0那么只会计算直接光照。 ·Sky Light Color 天光颜色 天光是模拟从天球向所有方向发射光线照射场景-在烘培室外场景的时候开启天光将得到一个非常好的效果。 ·Sky Light Intensity 天光强度 天光的强度 - 0代表禁用天光。 ·Bounce Boost 反弹增强 增强间接光, 可用来增加场景中渲染太快没有烘焙出灯光的反弹量。 ·Bounce Intensity 反弹强度 间接光照的强度倍增器。 ·Final Gather Rays 最终聚集光线 控制从最终聚集点发射的光线数量-较高的数值能得到更好的效果 。 ·Contrast Threshold 对比度阈值 颜色对比度根据采样运算规则控制哪些最终聚集点被创

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