波阵面分割的其它干涉实验.ppt

* 波阵面分割的其它干涉实验 一、菲涅耳双面镜干涉实验 A B C M 1 M 2 ? 点光源 屏 平面镜 屏幕上O点在两个虚光源连线的垂直平分线上，屏幕上明暗条纹中心对O点的偏离 明条纹中心的位置 暗条纹中心的位置 E E` M N s s1 s2 d B C p ? 二、菲涅耳双棱镜干涉实验 屏幕上O点在两个虚光源连线的垂直平分线上。 它们也是分波前双光束干涉，是不定域干涉。 三、洛埃镜实验 KP为一背面涂黑的玻璃片，从狭缝S1射出的光，一部分直接射到屏幕M上，另一部分经过玻璃片反射后到达屏幕，反射光看成是由虚光源S2发出的，S1、S2构成一对相关光源，在屏幕上可以看到明、暗相间的干涉条纹。 当屏幕M移至P处，从S1、S2到P点的光程差为零，但是观察到暗条纹，验证了反射时有半波损失存在。 原因：当光从光疏介质射向光密介质时，反射光的相位发生了π突变，或者反射光产生了λ/2附加的光程差，即“半波损失”。 解释：光的电磁理论（菲涅耳公式）可以解释半波损失。 由于半波损失的存在，洛埃镜的明暗纹恰好与杨氏双缝相反。当光从光疏媒质射到光密媒质并在界面上反射时，反射光有半波损失。 半波损失 当光从折射率大的光密介质，入射于折射率小的光疏介质时，反射光没有半波损失。 (2) 当光从折射率小的光疏介质，正入射或掠入射于折射率大的光密介质时，则反射光有半波损失。 媒质1 光疏媒质 媒质2 光密媒质 n1 n2 折射波 反射波 入射波 光在垂直入射（i =0?）或者掠入射（i =90°）的情况下，如果光是从光疏媒质传向光密媒质，在其分界面上反射时将发生半波损失。 折射波无半波损失。 若 n1 n2 情况1： n1n2n3 有 有 没有 情况2： n1n2n3 无 无 没有 ?产生半波损失的条件：光从光疏介质射向光密介质，即n1n2； ?半波损失只发生在反射光中； ?对于三种不同的媒质，两反射光之间有无半波损失的情况如下： 情况3： n1n2n3 有 无 有 情况4： n1n2n3 无 有 有 n1n2n3 无 n1n2n3 无 n1n2n3 有 n1n2n3 有 第四节 干涉条纹的可见度 干涉场某点附近干涉条纹的可见度定义为： 它表征了干涉场中某处条纹亮暗反差的程度。 所考察位置附近的最大光强和最小光强 所以 影响干涉条纹可见度的主要因素是两相干光束的振幅比、光源的大小和光源的非单色性。 一、两相干光束振幅比的影响 两光波振幅相差越大，K越小。设计干涉系统时应尽可能使K=1，以获得最大的条纹可见度。 二、光源大小的影响和空间相干性 实际光源总有一定的大小，称为扩展光源。它可看成是许多不相干点源的集合。 每个点光源，在干涉装置中都形成一对相干点光源。各对相干点光源在干涉场产生各自的一组条纹。各点光源有不同位置，各组条纹相互间产生一定的位移。暗条纹的强度不再为零，条纹可见度降低。 当光源大到一定程度时，可见度甚至可以下降到零，观察不到干涉条纹。 （一）条纹可见度随光源大小的变化 将扩展光源分成许多强度相等、宽度为dx’的元光源，每一光源到达干涉场的强度为 I0dx’，则位于宽度为b的扩展光源S’S”上的c点处的元光源，在屏平面x上的P点形成干涉条纹的强度为 分别是从c点到P点的一对相干光在干涉系统左右方的光程差。 类似 有 或 其中 ━相干孔径角 S1 S2 d 到达干涉场某点的两条相干光束从实际光源出发时的夹角。 宽度为b的整个光源在x平面P点处的光强为 为干涉条纹的可见度 图见书 第一个K=0值对应 称条纹可见度为零时的光源宽度为光源的临界宽度，记为bc 是求解干涉系统中光源的临界宽度的普遍公式 在实际工作中，为了能较清晰的观察到干涉条纹，通常取该值的1/4作为光源的允许宽度bp，此时条纹可见度为K=0.9。 （二）空间相干性 光源大小与相干空间（干涉孔径角）成反比关系 给定一个光源尺寸，就限制一个相干空间。 图P222 应用举例 1.测遥远星体的角直径： b d B ? ? 星体 考虑到衍射的影响，有 使d =d0则条纹消失 *