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第32卷 第5期 材 料 科 学 与 工 程 学 报 总第151期 Vo1．32 NO．5 JournalofMaterialsScience Engineering 0ct．2014 文章编号：1673-2812(2014)05—0649—04 氧化法热处理温度对氧化钒薄膜热敏特性的影响 徐 凯 ，路 远 。，凌永顺 ，乔 哑 。，唐 聪 (1．电子工程学院，安徽 合肥 230037；2．红外与低温等离子体安徽省重点实验室。安徽 合肥 230037) 【摘 要】 采用直流磁控溅射法制备氧化钒薄膜 ，并采用不同的温度对其进行氧化法热处理，通过 XRD、SEM、四探针薄膜电阻测试，分析了不同热处理温度对氧化钒薄膜 的晶相特性与热敏特性婚影 响。实验分析证明热处理温度升高后(400℃)得到的薄膜热敏特性 良好，其室温电阻为 160K~·CrU，室 温电阻温度变化系数为一2．4％／℃，变温过程 中(20～98℃)其平均值约一1．98 ／℃，表 明温度升高有 利于改善薄膜热敏特性 ，在非制冷红外探测器应用方面具有发展潜力。 【关键词】 氧化钒 ；氧化法；热处理温度 ；热敏特性 中图分类号 ：TB381 文献标识码 ：A EffectsofAnnealingTemperatureonThermallySensitive PropertyofVanadium OxideThinFilms XU Kai ，LU Yuan ，LING Yong-shun ，QIAOYa ，TANG Cong’ (1．ElectronicEngineeringInstitute，Hefei230037，China；2．InfraredandLow TemperaturePlasmaKeyLaboratoryofAnhuiProvince，Hefei230037，China) [Abstract] Vanadium oxide(VO )thinfilmsweredepositedbyDCmagnetronsputteredmethod，and thenannealedinanoxygencontainedatmosphereatdifferenttemperature．XRD，SEM andfour—pointprobe resistancemethodwereemployed tOstudytheeffectsofannealing temperatureon thephasecomposition and temperaturesensitivepropertyofthevanadium oxidethin films．Theresultsoftheinvestigation andanalysis show thatthermallysensitivepropertycanbeimprovedwiththeannealingtemperaturebeingraisedto400~C． Theresistivityatroom temperatureis160K~~·cm ，theresistance—temperaturecoefficientatroom temperatureis 一 2．4 ／~c andtheaveragevalueover20～ 98℃ is一 1．98％／~c．Thethinfilmshavegreatpotentialin application asthermalsensormaterialinuncoolIR detector． [Keywords] vanadium oxide；oxidationmethod；annealingtemperature；thermallysensitiveproperty 氧化钒薄膜具有较高的电阻温度系数 ，因此氧化钒薄 引 言 膜可被应用于非制冷红外探测器热敏元件。