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微波铁氧体器件薄膜的制备及性能研究.pdf

第 30 卷第 5 期 杭 州 电 子 科 技 大 学 学 报 Vol. 30, No. 5 2010 年 10 月 Jour nal of Hangzhou Dianzi Un iversity Oct. 2010 微 波 铁 氧 体 器 件 薄 膜 的 制 备 及 性 能 研 究 杨已青, 郑 梁, 武 军, 刘 建, 秦会斌, 胡 冀, 徐军明 杭州 电子科 技大学新型 电子器件与应用研究所, 浙江 杭州 310018) 摘要: 该文采用 RF 磁 控溅射工艺制备了射频 薄膜 电感用的铁氧体薄 膜 。为了 降低铁氧 体薄膜 在 高频下的涡流损 耗、剩 余损耗等, 通过 对铁氧体材 料的磁特性 分析, 研究了不 同的温度、成分掺 杂 对铁氧体磁性能的影响, 获得 了矫顽力为 5 . 619 6Guss 的铁氧体薄膜, 并采用 SEM、XRD 对铁氧体薄 膜表面结构进行了表征, 采用 VSM 对薄膜磁性能进行了测试 。 关键词: 铁氧体薄膜; 磁控溅射; 矫顽力 中图分类号:TM271. 2 文献标识码: A 文章编号: 1001- 9146 2010) 0 5- 0001- 04 0 引 言 磁性薄膜是当前高新技术新材料开发中最活跃的领域之一, 是功能材料从三维 向低维材料发展 的 必然趋势, 也是近年来磁学和磁性材料发展最快的前沿阵地 。用坡莫合金薄膜制造高速记忆元件 以来, 世界各 国学者对磁性薄膜进行 了广泛的研究, 并取得 了很大 的进展[ 1] 。近年来随着 电子元器件 向微型 化、薄膜化、高频化、集成化等方 向发展, 将各种铁氧体材料制备成薄膜形态, 研究薄膜 的微结构、磁性 能、微波性能等, 将可 以促进铁氧体薄膜器件 的发展[2 ] 。但是, 微波铁氧体在高频交变磁场下, 涡流损耗 与剩余损耗 占铁磁材料内的磁损耗 的主导地位, 为 了降低涡流损耗、剩余损耗等, 依据薄膜的磁性机理, 本文采用磁控溅射的方法进行 了薄膜的制备, 制备 的薄膜矫顽力低, 磁化强度高 。 1 磁性薄膜的设计与工艺研究 1. 1 磁性材料 的研究 铁氧体是一类无机非金属氧化物材料, 它是由氧化铁 Fe O ) 与一种或多种金属氧化物混合烧结而 2 3 成的磁性陶瓷材料, 一般 的化学式为M Fe O , 这里M 表示一系列金属离子与金属离子的组合, 常见 的 x y z 有 Mg, Mn ,N i, Co, Ni- Zn 等[3, 4] 。 对于铁氧体来说, 其高频磁性能可采用磁谱来表征。磁谱 的狭义定义是指铁磁体在弱交变磁场 中 的复数磁导率的 Lc和 Ld随频率变化的关系。在静态与准静态下, 对于各 向同性 的磁介质, 磁导率 L 为 一标量和实数, 在动态情况下, L 不再是实数, 而是复数 。复数磁导率是表征铁磁体动态磁特性 的一个 物理量。复数磁导率 的表达式推导如下: j Xt- D) B e B L= B = m - jWt = m cosD- j sinD) = Lm cosD- isinD) = Lc- jLd, 其中: B ) 磁感应强度的复数表 L H L H 0 L H e 0 m 0 m 收稿 日期: 2010- 07 - 20 基金项 目: 国家 自然科学基金资助项 目, ; 浙江省 自然科学基金资助项 目 Y107255) 作者简介: 杨 已青 19 63- ) , 男, 浙江江 山人, 副教授, 微波 电子材料与器件. 2 杭 州 电 子 科 技 大

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