磁控溅射ZrAlCuN薄膜的微观组织与力学性能.pdfVIP

第 27卷 第 5期 中 国 表 面 工 程 Vo1．27 No．5 2014年 1O月 CHINA SURFACE ENGINEERING October 2014 doi：10．3969／j．issn．1007—9289．2014．05．014 磁控溅射 ZrAICuN薄膜的微观组织与力学性能* 杜 军 ，杨班权 ，孟凡军 (装 甲兵工程学院 a．再制造技术 国家重点实验室 ，h．机械工程系，北京 100072) 摘 要 ：采用磁控溅射技术制备不同原子比的ZrA1CuN薄膜。采用场发射扫描电镜(FESEM)观察截面形 貌 ，高分辨透射 电镜分析微观组织结构，纳米压人法测定薄膜 的硬度 ，压人法 (维 氏压头)测定薄膜的韧性 。结 果表明：Zro．。A1 Cuo。No 薄膜截面呈纳米尺度柱状晶，沿沉积方向生长，仅存在[111]、[2oo]、[220]、[311] 取 向的5～1OnmZrN晶粒 ，未发现 A1N及 Cu独立相 ，硬度约 41．7GPa(载荷 10raN)，弹性模量约 257．8GPa。 Zro ． z。Alo．Cuo．。No。。薄膜呈纳米尺度柱状晶，存在 i0~20nmZrN纳米晶以及 Cull11]纳米晶，硬度约 27GPa (载荷 10mN)，弹性模量约 225．8GPa。由于前者具备较高的硬度 ／弹性模量 比，从而表现出较好的韧性 。 关键词：磁控溅射；薄膜；硬度；韧性；微观组织 中图分类号：TG174．444 文献标志码：A 文章编号：1007—9289(2014)05—0109—06 M icrostructureandM echanicalPropertiesofZrAICuN FilmsPreparedby M agnetronSputtering DU Jun ，YANGBan—quan ，M ENG Fan—juna (a．ScienceandTechnologyonRemanufacturing Laboratory，b．DepartmentofM echanics，AcademyofAr— moredForcesEngineering，Beijing100072) Abstract：ZrAICuN filmswithdifferentatom ratiosweredepositedbymagnetron sputteringmethod．Themor— phologyandmicrostrueturewereinvestigatedbyfieldemissionscanningelectronmicroscopy(FESEM)andtransmis— sionelectronmicroscopy (TEM)．NanoindentationandVicker’Sindentationmethodswereusedtomeasurethehard— nessandtoughnessofthefilms，respectively．Resultsshow thattheZr036A1。 Cuo No48film exhibitsnano—colum— ． 15 ． o1 narstructureextendingalongthegrowthdirection．EquiaxedZrN (5—10nm)nanocrystalswith[111]，[2oo]， [220]and[311]orientationsotherthanA1NandCuarefoundinthisfilm．Zr029A1024Cuao8N。39filmshowsnano— columnarstructure，andthereexistZrN(10—20nm)