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半导体工业用超纯水的制备过程详解 半导体超纯水设备主要用于高技术的工业生产过程，尤其是半导体这种要求较高的技术尖端行业，对水质要求非常严格。半导体用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金属离子含量都要在ppb级以下，总硅小于3ppb，TOC小于50ppb，电阻率在18M?以上，水质中及其微量的杂质原子都会对产品造成极大的影响。 　　半导体超纯水设备之预处理系统 　　一般水源水都难以满足超纯水的要求，在超纯水的和制备过程中，预处理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是最常用的预处理工艺流程。原水中加入絮凝剂或采用电解絮凝方式，可以去除悬浮物、胶体和少部分有机物。氧化主要是去除易生物降解的有机物和氨氮。吸附同样去除水中的悬浮物和胶体。 　　半导体超纯水设备之深度处理系统 　　超纯水的深度处理工艺需要采用最有效的水处理材料和最先进的水处理单元装置，最常用的就是反渗透设备，反渗透是现代超纯水制备的核心。超纯水处理工艺一般为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→保安过滤器→反渗透装置→混床→超滤设备→超纯水。终端的超滤设备可进一步降低微粒和细菌的含量。 　　半导体超纯水设备的制备过程主要以预处理和深度处理两大系统为主，完全按照超纯水要求制备，严格控制出水水质指标，保证工业生产和产品的品质。