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(B)的一个子群。Up有detC(B)整除H。。detCp(B)和d(B)“”。定理得证,
中的初等因子全为1。
证明除了可能相差一些R。中的单位外,c(G)在z中初等因子即是其在R,中的初等因
子。由定理3,c(G)在z中的初等因子是n一,数因此它们全在K中,从而即是Staszewski
于【4,2.4】中给出的。
初等因予全为1。
参考文献
140-191
…I F衄wⅢ”Rc舯鬻岫旧mⅥ肌y0fF咖。雌Al删删缸们qcwY州嘣h】hd:No曲-HollandFubllshmI;o棚p埘.1982
12】R(岫l哪GR0n
cIl蚍懒af枷畸舯je酣vemodul嚣JJ-andanM虮socl987,36(2):44-58
f3】黜岫瞰lGR蛳出eb啪。啊科而·Iod喇川咖I啦!17(3):409-418
【4】鼬嘧^v出兜on胥blocb硝6I岫口雌Q棚札Al咖19ss.13{11):2369-2405
This outa betweentheCartanmatrix andthatof
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Staszcwski out elcmenU|Iy
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【作者简介】朱一心,男,1964年5月出生.江苏昆山人,在北京大学获博士学位。研究兴趣:有
限群表示论。
半导体平面InGaAs/GaAS量予阱微腔的光学性质研究
赵建华 陈京好 邓元明 谭平恒 杨富华 郑厚植
(中国科院半导体研究所半导筒晶辖国家重点实验室,北京,iocos3)
摘要 i本文报道了半导体平面InGeAs/GaAs量子阱微腔物理的研究工作。
我们自行设计制备出了品质因数为1000以上的半导体平面
hCcaAs/GaAs量子阱徽腔,观察到了明显的Rabi分裂现象,由角分
辨光致发光谱确定出温度为77时腔极化激元的色散关系,在10一
塾芏堑垄墨丝亟坌盟 433
150K的温度范围内观察了光致发光谱的变化。各项研究结果均达
到国际先进水平。、、
关键词 半导体平面微腔 腔极化激元 RaN分裂
随着薄膜制备技术的迅速发展,人们利用分子束延tMBE)和金属有机化合物气相沉积
(MOCVD)技术可以从一个、二个甚至三个维度方向来限制半导体中电子体系的尺度,制
备出量子阱、量子线和量子点等。半导体结构维度的降低使得其物理性质发生了很大的变
化,表现出许多与大块体材料不同的现象,例如低
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