Ｓｉ（ｌｌｌ）面Ａｌ沉积膜形貌磨损研究.pdfVIP

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2017-08-14 发布于安徽
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Ｓｉ（ｌｌｌ）面Ａｌ沉积膜形貌磨损研究.pdf

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电子显徽学报J．Chin．Elecrr．Mierosc．Soc 1999年】8(Supp)：95～96 吕晋军1张平余1 吕晋萍2薛群基1 (1．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑开放研究实验室，兰州730000) (2．电子工业部国营第877厂四分厂，西安710065) Al合金及其复合材料的润滑一直是摩擦学研究的难题之一“。本文利用蒸镀方法在单晶硅性能，最后对沉积膜的磨损机理进行_r简要的研究。结果与讨论本文采用日本岛津公司的SPM9500型原r力显微镜和JEOL的SEM9500型扫描电子显微镜研究沉积膜的形貌；采用日术KyowaKagaku公司的精密静动率擦试验机考察沉积膜的摩擦学性能。其中对偶为92．5ram的GCrJ 5钢球，试骑条件为：滑动速率0．08cms～，单向滑动距 00次。离8mm，负荷509，滑动次数l 成，沉积膜较为致密。同时柱状晶的取向基本垂直于底材方向，因此可认为沉积膜的强度沿垂直底材(111)面的方向最大。考虑摩擦方向平行于底材(111)面，故可以推断摩擦不存在明显的方向性，同时，沉积膜的棒状晶结构对降低摩擦的沉翟{膜的二维表面形貌。由同2(a)可以观察到柱状晶纵向的晶界。由于晶粒较小，因而晶界的行为会对0C秘膜的性能产生较大的影响。利用AFM配套的粗糙度分析软件对沉积膜的粗图1 AI沉积膜的二次电子像糙度进行厂分折(女¨图2(b)所示)，结果表明其粗糙度Rms为456．91nm。图3(a 和(b)町以发现沉积膜的磨损均表现为塑性变形，在网中也可观察到片状磨屑的形成过程。由r 沿不同方向摩擦试验均表现出相似的磨损类型，结果证明了由形貌观察所得出的摩擦不存在明显的方向性的推断。Al为面心立方结构，其临界剪切分应力介于体心立方和密排六方之问。大量品界的出现会使得晶粒内部的滑移较难于进行，这会导致在较高应力下才能使Al产生塑性变形。因此可以认为大量晶界的存在可能对0C积膜较高的摩擦系数(0．7)有一定贡献。参考文献 r B ：1]DivakaP．Kotiveerachariand B．Astudyofwear characteristicsofdifferent Reddy 88；肋7—2】9 基金项目：国家自然科卞基金脊助项月 c,．电子显微学撤J．Chin．Eleelr．Microsc．So 1999年 96 18(Supp)：95～96 。 ”函{…一…一—=了一 ————————一——一————一—————————————一 ”o 1∞822