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X射线研究Ce02缓冲层
王荣平周岳亮 潘少华吕惠宾陈正蒙
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100090
q,Iq,f斗学院物理研究所光物理吏啦事.中11,1.?4学院凝聚卷物理-{,心,北上l
I、:
摘要: 我仃J台:和和止离j:束辅助两种仙彤r.拄舣轴纸掏NI挂戚J砩0蔷J’Ce02
薄膜,结果表明.无离f束辅助沉积时,渺膜表现出(111)取向.扣:离子能键为240eV,
母
CoO二秘脱‘王现f}j娃女r的-Z方
泉流为2001J.A/cm:,牡片沿度为360℃的条件FiX{.o,f19
织构。另外.我们分析r薄膜应力随温度和离子辅助条件的变化关系,结果表明.离
』,水轰zh町以减小渺膜成D.^‘360r刚近}酬蔓戍办JLr融,j个弛豫。
一、引 言
m
量H0驭向腆,M辨,金磁基底』oYBCO薄膜之州仔住蚋扩敞现豫也产:氍黝蛾曹映的睢能
小金柢‘j
YBCO薄膜“…,由此lⅡ她,缓冲联质』l;的好坏将l’£接影呐YBCO;垮ji}!n0·陀能。
强钓0:,J纵};;J的Ce02jn蛙{EI岂条{_!l=,粥外.1{jj:人的一九洛导致薄膜晌”裂,影响游
渡狞‘陀能.所以我们世Or3f.j’随沉程{溢嫂技离J:4itiJiD条“变化的一山弛豫,
二.、实验条件
实验龙离r求辅j{}j的脉冲激光0({!}i系统』:进}j,舣轴纵曲的Ni盒槭f1:为基“,丛
”收入沉年}l室fii,rf]f^jdj,厶薛超卢j,i洗.一束能繁密度约为2Jlcm2的XeCl(308nm)准分
J’激圯入射剑‘个Ce02旋转烧爿i靶f:.靶。j基Ji的距离为45cm.沉年;{速率为0l、ol 5
nmS,收厚为300—400Fim.
强衢j’Ce02薄膜.删备f:10溥摸川x射线女r射仪分#i其;,球4及J电/J弛豫特一睦.
]
1一荣、lc等:x射线研究Ce02缓冲层
三、结果和讨论
a.结构特征
图I给{lj
II
以厅f{{,溥膜垡现出很诘{(IJ取向,随荫
1 :l
温度的升高,(11)峰越来越强,丑.峰宽自
加大的趋势。为了获得(ooll取向的Ce02
缓冲层,我们采用离子束辅助沉积的方 ·{
法,通过调节离予束束流、能量和基片温
度,希孥能够f};;助离了束轰击,能改变
c_*e一皇∞h釜la石j岔 Ce02缓冲层的取向,圈2为离子束流为
200 eV时在几个不问
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