XP5与AES研究AMT复合剂在青铜表面上形成的膜.pdfVIP

1998年11月 全国腐蚀电化学及测试方法学术讨论会论文集 241 XPS和AES研究．JUT复合剂 在青铜表面上形成的膜 朱一帆 李大刚施兵兵 南豪化I大学直甩化学幕南京t210009) 万俐 徐飞 陶保成 南京媾蜘院文勘保护研究斩,裱(210009) 搏要： 采用Ⅺ)s和A岱方法．表明用A6fr的复合物ACN处理青铜和含粉状锈青锕 形成膜中含有N、s、C、o、H和cu，其中cu元素以+l价存在，且膜中无cl元 素。 关键词：A盯XPSAES青铜 一． 前言 害锈，它系鲜绿色的具活性的能恶性膨胀的强侵蚀性的铜锈，主要成分是Cu。(oH)3C1， 统称为粉状锈；又能在青铜表面上形成浅黄色的保护膜“】。这种表面颜色，不符合我 国的文物保护具古色古香、修旧如旧的要求。为此，进行A盯复合物研制，筛选出在A腑 中含有络合剂C和N等组分的复合物ACN，其去除粉状锈性能和保护膜性能均比单一加 器文物达到我国文物保护要求。本文主要采用xPS和AES方法研究AcN复合剂在青铜 表面上形成的膜。 二． 实验方法 2．1实验仪器 PHI-550型多功能电子能谱仪(美国) 2．2实验试样 2．2．1试片材料 试片为精密铸造的仿古代青铜，其成分为Cu87．4％，sn10．15％，Pb2．36％，经砂 纸逐级打磨至1000日，无水乙醇脱脂后，待用。 江苏省自然科学基金资助项目 242 朱一凡等：xPS和AES研究AMT复合剂在青铜表面上形成的膜 2．2．2青铜试片的ACN溶液处理 将青铜试片浸于60％的ACN溶液中，经6小时后取出，用蒸馏水冲洗、干燥、待 用。 2．2．3含粉状锈青铜的ACN溶液的处理 在青铜上按文献‘31制各成粉状锈后，再与2．2．1同法处理。 三． 结果与讨论 3．1膜中元素分析 青铜和含有粉状锈青铜经CAN 处理后形成膜的XPs全谱图(图1 和图2)，可知膜中均含有c、S、 N、0、Cu和H(光电子能谱不能测 定H)。 经Ar+束不断剥蚀同时，用 AES定量测定膜中组成元素的含量 随深度的变化，如图3所示。 可见，C、N、S、O原子含量 稳定，而cu原子含量随着深度剥 蚀而增加，实际经40分钟剥蚀后 表面仍含有一定量c、N和S元素 图l ACN处理的青铜表面膜XPS谱图 ，A孵分子式为c2JbK3是，故可认为 膜有～定厚度，膜中0原子浓度较高 可推测AMT中加入络合剂C和N组分缘故。 图2 AcN处理的含粉状锈的青铜表面膜xPs谱鞠 ．!竺 。一 1998年ll星一一全宴堕丝皇垡兰墨望!茎查鎏堂垄堡至垒笙苎塞 3．2膜中铜元素的化学态 采用At+离子束溅射结合高分 辨聍s法，测定表面膜中的cuL3w (即Cu(A))和cu四3，：的高分辨谱图 所得的Cu2P∽的结合能和cuL3W 俄歇蜂线峰值列于表中，并与Cu：O 和铜的PTR膜比较，可见，溅射前 表面膜中CuL。W俄歇蜂线峰位值与 Cu，0一致，溅射后表面膜中Cu2h，2 与Cu+PTR膜的结合能一致，说明cAN 在青铜上形成膜中铺的化合价为+1。 图3’ACN处理青铜的表面膜组成元素深度分布 表青铜表面膜中cu2Pm结合能和c山1nr俄歇峰线峰位值(eV) 试 样 cukw cu2P．幢 判 定 溅射前 337．0