Ti(C%2cN)晶须制备和研究.pdfVIP

·18· 《陶瓷工程增刊》 1999年11月 Ti(C，N)晶须制备与研究 赵 拮苗赫濯胡晓清曾照强 菏华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室 北京·100084 VLS机制成功台成了C／i、比为】：】的Ti(C，Ⅳ)l帛须。整个合成过程是～个较为复杂的碳热还原反应。合成过程中 的升温速度、保温温度和时间都会影响到晶须转化率、品须形貌、以及Ti(C，N)晶须中的C／‘N比。本方法所制备的晶 n 须平直、光滑，直径为I“n．左南，长度为10p．m409in。在合成产物中还有一部分Ti(C，N)颓粒。 关键词晶须TJ(c，N)VLS机制碳热还原台成 1 前 言 (99．9％)。将原料按照一定的摩尔配比在尼龙罐中 混合均匀，之后将混合料放人石墨坩埚在高温炉中 作为制备高韧、高强陶瓷的有效外加剂，晶须 已经越来越受到人们的重视。通过将SiC，TiC晶须 在1300℃一15000C恒温30rain。 加入到si，N。AI：O，q一可lH大幅度提高材料的机械 力学性能，从而拓宽了这螳材料的应用领域。但是， 2．2测试分析 目前市场上比较成熟的ff供工业生产使用的晶须 在率实验中采用OPTONCSM一950扫描电镜 观察Ti(C，N)晶须的微观形貌，用xRD方法测定Ti 只有SiC、TiC晶须，而Ti(：晶须也只是近几年才开 (C，N)晶须的晶格常数。1’i(C，N)为立方晶体结构， 始出现并在实践中得到应胃。众所周知，Ti(I：，N)具 有比TiC更加优良的抗氧，七性、热硬度、热导率和 计算品格常数的公式如下IV： 热震性，而且更加不易与：t属起反应。可以预期用 a坤=d懈Xih?+}+F}“：=f(鼬L1、 e) 02、 Ti(C，N)晶须来增强增{口陶瓷有可能获得性能：{Fa一?=a…+△a=H帅?÷k中f C，N)晶须昀 9fe)=(1／sin+1，0)xeosaO／2L3、 常好的陶瓷基复合材料。口一1此探索TiI 制备方法具有十分重要的营义。 式中a，为实验测定品格常数，ac。为真实值， TiC晶须的制备方法，‘i体可以分为两火类，一△a为实验误差，k为常数，拟合‰。一9(e)关系曲 线，外延至∞(e)=0得到晶格常数真实值。 种是WokulskillI等人采用的CVD法，另外一种就是 Mats JohnSSOiqlll等人所采用的碳热还原VLC台成 法。由于后一种方法相比而言成本较低且：f艺简 3实验结果与讨论 单，容易在工业生产中得到推广，所以本研究借鉴 并采用后一种方法来制备叭C，N)品须。 3．1 Ti(C，N)晶须特性 按照作者设计的工艺路线可得到转化率较高 2 实 验 的Ti(c，N)晶须，通过SEM观察可见在最终产物中 大部分都为晶须状产物，但是仍然存在少部分的蜀 2．1原料及制备工笔 本实验中所垌原料为：化学分析纯T·07，化学N1品须一般直径都在1Hm左右(图1d)，长度则为 99．5％)，化学纯Ni粉 纯NaCI，T业用炭黑(纯H —— 《堕童三焦缝到!!塑!堡!!旦～ ：12