彩色等效灰度掩模制作方法研究.pdfVIP

维普资讯 第 34卷第 12期 光 子 学 报 Vo1．34No．12 2005年 12月 ACTA PHOTONICA SINICA December2005 彩色等效灰度掩模制作方法研究* 罗宁宁 高益庆 谌廷政 漆新民 朱小进 陈劲松 (南 昌航空工业学院测控系，南 昌 330034) 摘 要 提 出了一种利用彩色等效灰度理论设计掩模 的新方法——数据库法 ．通过选取不 同 RGB值组合成特定颜色，由彩色胶片输 出仪输 出这些颜色组成的彩色掩模，获得 的彩色胶 片掩模 用来线性调制曝光量，从而实现二元光学元件台阶深度的线性化 ．给出了理论计算和 16阶菲涅耳 透镜 的实验结果，证明了数据库方法设计掩模的可行性 ．该方法的提 出为灰度扩展提供 了新途径． 关键词 衍射光学；彩色等效灰度理论；彩色掩模 ；彩色胶片输出仪 中图分类号 TN305．7 文献标识码 A 台阶对应的调制光强落在 60~75mJ／cm。范围内． t’ 5l昌 当台阶数较少时，可采用 2O～50mJ／cm。内的线性 衍射光学元件已广泛应用于声光、集成光学、光 段曝光，所需的光强调制分辨率可能低于 256级灰 谱学、光互联和量子电子学等领域[1叫]．近年来 ，研 阶实际调制分辨率 ．当进一步提高台阶数，如 16 究人员探索一些成本低 、短周期 的衍射光学元件制 阶、32台阶、64台阶甚至连续时，灰阶调制分辨率将 作方法，其中研究最多的就是灰度掩模法 ．灰度掩 无法满足台阶精细深度加工的要求 ．此时，就要寻 模方法是在掩模平面不同灰度处提供可变的透过 求方法使灰度扩展 ． 率，在经过一次光刻过程和刻蚀后得到所需的衍射 8o 光学元件 (DOE)．该方法具有成本低 、周期短 、方法 60 简单、无对准误差等优 点，因此成为当前研究最多、 最有前途的一种二元光学器件制作方法 ． 彩色掩模的设计和制作 ，国内外文献报道较少． 墨20 用高分辨率的彩色打印机 (300一dpi)在透 明片上制 0 作彩色掩模 的方法 国外 已有报道 [5]，它为灰度掩 模的制作提供了一种新的途径 ．然而，该方法制作 的二元光学元件台阶深度不是按线性规律变化 的， 图 1 膜 厚一曝光量 曲线 而且掩模板分辨率较低 ．本文提出了一种彩色等效 Fig．1 Thickness—exposurecurve 灰度掩模 的制作新方法 ，该方法利用适 当选取 R、 颜色混合基本定律表 明：自然界 中任何一种颜 G、B值来组成一系列特定颜色，这些颜色构成的彩 色均可用RGB三原色光混合匹配产生 ．这个等效 色掩模 由胶片输出仪输 出，获得 的彩色胶片掩模用 色与实际色作用于人眼所 引起 的彩色视觉是相 同 来调制曝光量，从而实现二元光学元件的台阶线性 的，其配色方程可表示为[7 变化 ． IF]一R(R)+G(G)+B(B) R、G、B是任意彩色IF]的三色系数 ．适当选取不同 1 彩色等效灰度理论 RGB值组合成一系列特定颜色，每种颜色等效于一 用于制作光学掩模 的感光材料，大部分具有很 个灰度级 ．如果