镁合金微弧氧化陶瓷层生长过程及微观结构的研究.pdfVIP

第23卷第1期 材料热处理学报 Vol23 Nol 200 TRANSACTIONS0FM^1下RIALSANDHE^T1胃EATMENT 2年 3月 Man：h 2002 镁合金微弧氧化陶瓷层生长过程及微观结构的研究 蒋百灵， 吴国建， 张淑芬， 雷廷权 (西安理工大学材料学院，陕西西安710048) 摘要：利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等分析手段，研究了MB8镁台金微弧氧化冉瓷膜层的 生长规律，分析了微弧氧化条件下氧化镁膜层致密性和相结构与处理时间的关系。结果表明，在微弧 氧化初期哄层致密，几乎观察不到疏松层；随着处理时间的延长及膜层的增厚，其外侧开始出现疏松 层，最终可达到膜层总厚度的90％左右。膜层相结构主要由Mso、MgSi01、MgAI：q和无定形相组成。 03的含量基本不变．而无定形相 糖着磷层厚度的增加，膜层中M90、MgAb0．的含量不断地增加，MgSi 的含量却逐渐减少。 关键词：镁合金；微弧氧化；相结构；致密层；疏轮层 中由分类号：TGl462+2 文献标识码：A 文章编号：1009．6264(2002)01·0005-03 镁合金具有密度低、比强度高、能量衰减系数太 表面处理。电解液为去离子水配制的以硅酸钠为主 以及优良的电磁屏蔽等特点，被誉为21世纪理想的 的硅酸盐体系溶液，微弧氧化时问为15～120min。 电子产品壳体和汽车构件的替用材料…。因自然形 利用日本理学D／MAX—RA自动X射线衍射仪 成的氧化膜疏松多孔无自保护功能，使用时必须进行 适当的表面防腐处理。传统的化学氧化和阳极氧化 描电镜观察陶瓷层的表面形貌和截面形貌；用IT230 存在着膜层薄，耐蚀性差及因铬酐加入污染环境等问 数字式涡流测厚仪测量陶瓷层的厚度。 题．难以满足防腐和环境的要求。 近年来兴起的微弧氧化技术是一种新型的金属 2实验结果及分析 表面处理技术”“l。其原理是通过脉冲电参数和电 2．1镁合金微弧氧化膜层的结构 解液的匹配调整，在阳极表面产生微区弧光放电现 图1为MB8镁合金试样经徽弧氧化处理后氧化 象，进而在金属表面原位生长出一层陶瓷膜层，以起 镁陶瓷层的结构。可以清晰地看出，陶瓷膜由过渡 到改善材料的耐磨、耐蚀、耐热冲击及绝缘性能的作 层、致密层和疏松层组成。过渡层为膜层与基体的交 用。本文旨在研究微弧氧化条件下氧化镁陶瓷层的 界面，膜层与基体犬牙交错，形成微区冶金结合；中间 生长过程及其相结构随处理时间的变化规律，以期为 为无气孔和其它缺陷的致密层；致密层外侧是疏松 该技术在镁合金防腐处理的应用提供试验依据。 层，层中存在许多孔洞及其它缺陷。图2为陶瓷层的 1 材料及实验方法 实验材料为MB8镁合金，化学成份(％)为：Al 1 0．20，Mn3～2．2，Zn0．2，Ce0．15～0．35，Cu 0．05，Ni 50mm 0．07，余量为Mg。试样规格为50mmx ×1mm的标准小方块。处理过程中通过气泵的搅拌 冷却使电解液温度保持在20一40℃。 实验采用自行研制的65kW微弧氧化装置进行 收藕日期：2001．07—18；修订日期：2LK)I一10-23 罔1 陶瓷层截面的扫描电镜照片 作者简