用扩散退火制得NdFeB薄膜磁性能.pdfVIP

用扩散退火制得NdFeB薄膜的磁性能 1引言 自从Nd。Fe。B永磁体发现以来，对其磁性能和应用作了很多的研究。但是，这种磁体很 脆。要把块状磁体加工成微米级产品，十分困难。因此，需要直接制成薄膜。mrc种潜在的应用 中，对Nd。Fe。。B薄膜的需求正在增长，例如微型电动机，微电子机械系统(MEMS)，磁记录． 以及精确控制模拟系统，用这个系统来研究确定硬磁材料磁性能的矫顽力机制。已有人报告过 对溅射沉积、分子束外延和激光烧蚀制备Nd：Fe．．B薄膜的研究。采用溅射工艺制备薄膜，可吼 精密控制傲晶尺寸，由此研究微观结构在磁性能中的作用。看来，高性能Nd：Fe“B薄膜磁体， 要依靠溅射设备(包括基片材料，靶子成分，溅射气氛，溅射速度)和遇火条件(退火温度和时 问)。 微观结构，磁性能和扩散退火的影响。 2实验程序 、 10分钟。 膜的相成分，用CuKa辐射源作x射线衍射测定。用扫描电镜(sEM)测膜的厚度和微观 化曲线在外加场与膜面垂直和平行的方向上弱褥。 3结果与讨论 晶．有宽峰。退火后，膜呈现Nd：O，和a—Fe相的峰。为了防止氧化，在NdFeB层的两面上涂 氧化勃反射。但仍有大量的a—Fe．在膜中看到的a—Fe，大概是因为近似的化学正分靶材成分， 散，a—Fe峰消逝。 ～73— 析。在退火之前·在硅基片上，可以清楚地看到Ta／Nd／NdFeB／Nd／Ta5层。但是，在退火后， 明，Ta层会防止si原子向磁性层及其氧化相内扩散。 图3是Ta／Nd／NdFeB／Nd／Ta多层膜在不同退火温度的磁滞回线。随着退火温度升高， 在450C以上硬磁性能提高；在620C获得最佳硬磁性能。但是，在磁滞回线的第二象限出现 台阶，这是因为在混合层中心有剩余a—Fe的缘故。 。。6“oc’ ∥‘———～ ——、．．．．．乡 62口·C ．，—一 一／一 ／ 。 ，“一 5∞oC 气 一 一 乏 ，7 ／ 王 ／ 一 ～／一 曰o。c 呈 一?／ 器 秀 ‘ ÷一，。一。． 黝·C C 器 7．—，一厂一 至 一。z=== 5∞oC 450·C ：==7————～ ——、———．。：=三 ■ 一 ● ．30 -20 ．10 0 10 20 30 H(kOe) 田3 Ta／Nd／NdFeB／Nd／Ta雎在不同退火温度的破哥回钱 图4绘出了Ha值随退火温度的变化曲线。在550C以上退火，矫顽力开始升高，在620(2 得到最高矫顽力值。在65012退火的样品，呈现低矫顽力值，因为过时效，使Nd：Fe．．B的晶粒 尺寸长大。 中，未对退磁场作补偿。在这些样品