化学溶液法制备La2Zr2O7缓冲层特性研究.pdfVIP

第37卷 增刊4 稀有金属材料与工程 V01．37，Suppl．4 2008年 10月 RAREMETALMATE刚lALLSANDENGINEERING October2008 冲层特性研究 化学溶液法制备的La2Zr207缓 于泽铭1，一，周 廉1，张平祥1，熊晓梅1，金利华1，李成山1，卢亚峰1 (1．西北有色金属研究院，陕西西安710016) (2．东北大学，辽宁沈阳110004) 制备的LazZr20，缓冲层的体织构和表面特性进行了研究。结果表明，在金属基带上，利用化学溶液沉积技术制备的 La2Zr207缓冲层具有良好体织构和表面特性。 关键词：La2Zr207缓冲层；织构；化学溶液沉积技术 146．4 中图法分类号：TG 文献标识码：A 文章编号：1002—185X(2008)$4-119-04 本研究首先利用XRD衍射技术分析了在 1 前 言 Ni．5at％W合金基带上利用化学溶液沉积技术制备的 从目前涂层导体用缓冲层的结构与材料研究发展 趋势看，各研究小组基本上以简化缓冲层结构和利用 透深度一般为十几个微米，而LZO缓冲层的厚度仅有 化学溶液沉积技术制备缓冲层作为主要研究对象，其 几十纳米，因此XRD的结果表征了LZO膜的整体平 中以Ce02／La2Zr207结构的缓冲层被关注的最多。化均织构，并不能给出样品表面的织构信息。为了获得 学溶液沉积技术制备氧化物缓冲层的热处理过程中， 样品的表面织构信息，利用电子背散射衍射分析 前驱膜处于极大的过冷状态。虽然在金属基带表面发 (EBSD)对样品的表面层织构进行分析。最后利用反 生的异质外延形核过程较容易发生，但是前驱膜处于 射高能电子衍射(RHEED)对样品的表层原子排列情 极大过冷状态的事实将使得均匀形核过程在前驱膜内 况进行表征，说明LZO膜最表层的结晶情况。 发生的几率很大【l】。此外，在氧化物缓冲层晶化过程 2 实验 中，存在对缓冲层外延生长的限制因素【2’3】。限制因素 一方面造成缓冲层晶化程度不高，另一方面将造成缓 以丙酮为介质，利用超声波去除Ni．5at％W合金 冲层中出现立方织构和随机取向的混合织构类型。缓 基带表面附着的有机物。然后进行硫化处理，使基带 冲层在生长过程中，由于受到基带织构的诱导作用， 表面形成c(2x2)．S超结构。采用旋涂技术，将前驱溶 从基带表面开始生长的初生层将具有立方织构；而在 液【9】涂敷在硫化处理后的金属基带表面。旋涂过程工 前驱膜中层，或上层，由于自发形核和生长阻碍作用 艺参数：速度为2500r／min、加速度为3000 r·(min·s一： 的影响将导致前驱膜的中上层出现随机取向晶粒，或 旋涂时间为30s。旋涂后的样品在80℃、空气条件 者膜的中上层结晶程度不高【2】。 下干燥2min，最终获得带有前驱膜的样品。 涂层导体中的YBCO超导层是通过物理气相沉积 将带有前驱膜的样品在950℃热处理O．5h。热处 技术或化学溶液沉积技术在缓冲层表面外延生长制备 理过程中，热处理气氛为Ar-5％H2混合气体，热处理 的【¨】。因此，缓冲层的织构，特别是缓冲层表层几个 炉中的气体压力保持略大于0．1MPa。 原子层的排列直接决定了YBCO层的织