UVH2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究.pdfVIP

刘新秀等 UV／H：0：一NaOH沉淀法处理铜 一酒石酸络合体系模拟 电镀废水的研究 UV／H202一NaOH沉淀法处理铜 一酒石酸络合 体系模拟电镀废水的研究* 刘新秀 王英华 刘勇弟 孙贤波 (1．华东理工大学资源与环境工程学院，上海 200237；2．上海重金属污染控制与资源化工程技术研究中心，上海 200031) 摘 要 含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在，使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求。采用 uV／H202一NaOH沉淀法处理铜一酒石酸络合体系模拟电镀废水，考察了光照时间、初始 pH、H2O2投加量等因素对处理过程 的影 响。结果表 明，对于铜一酒石酸络合体系(酒石酸质量浓度为418mg／L，CuSO ·5HzO质量浓度为 196mg／L)，得出的最佳处理条件 为：光照时间70min，H2Oz投加量 1．07g／L，初始 pH 3．0，出水 中铜质量浓度可 以低于 0．3mg／L的排放标准 。为后续工业化应用奠 定 了基础 。 关键词 uV／Hz0z—NaOH 电镀废水 铜一酒石酸络合体系 Treatmentoftartaricacid-coppercomplexinelectroplatingwastewaterbyUV／H202-NaOH precipiattion LIUXinxiu ， WANG Yinghua ，LIUYongdi，SUN Xianbo ．(1．SchoolofResourcesandEnvironmentalEngineering，EastChina UniversityofScienceandTechnology，Shanghai200237；2．ShanghaiEngineeringResearchCenterforHeavyMet— alPollutionControlandResourceRecovery，Shanghai200031) Abstract： Dueto theexistenceoftartaricacid，thecopperineleetroplatingwastewaterwashardtomeetthestrict dischargestandardaftertreatedbycommonchemistryprecipitationmethod．Inordertosolvetheproblem ，thechelated compoundoftartaricacid-coppersolution(concentrationoftartaricacid=418mg／L，concentrationofCuSO ·5H20— 196mg／L)wasusedtosimulatetheelectroplatingwastewaterandthentreatedbyUV／H2O2一NaOH precipitation method，theeffectofirradiationtime，H2O2dosageandinitialpH ontreatmentefficiencywasinvestigated．Results showedthattheoptimum treatmentconditionswere1．07g／LofH202，initialpH of3．0，andirradiationfor70min， undertheseconditions，theeffluentcopperfellbelow0．3mg／L．Thismethodprovestheeffectivenesstodealwiththis kindofwastewatersothatitcanprovidetheoreticalinstructionsforthepracticalapplication． Keywords： UV／H202一NaOH；electroplatingwastewater；tartaricacid—coppercomplexsystem 电镀是当今全球三大污染工业之一 ，其水质复 沉淀法进行处理的可行性 ，并探寻最佳工艺条件。 杂 ，涉及到各种重金属离子 ，对人类危害极大。大量