常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用_赵玲利【荐】.pdfVIP

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2017-08-09 发布于河南
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常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用_赵玲利【荐】.pdf

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21 4 Vol1 21 No1 4 2005 4 Cleaning World April 2005 # # 常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用赵玲利王守国 ( , 100010) 介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以及在微电子工业的应用, 给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刻胶的实验结果, 简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响常压等离子体微电子清洗应用 O46 TN409 B Normal pressure plasma applications for the microelectronic industry cleaning ZH A O L ing li , WA N G S h oug uo ( Institute of Microelectronic, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100010) Abstract A normal pressure plasma cleaning apparatus and its applications in micro electronic industry have been introduced. The results of cleaning photoresist using the normal plasma equipmemt were presented. T he further effect of this technology on mi croelectronic industry has been briefly discussed. Keywords normal pressure plasma; microelectronic; cleaning; applications 1947 , , , : ; ; , : 2005 01 19 : ( 1963 ) , , , , 2005 4 33 # 34 # 2 1 , 1 传统湿法清洗与常压等离子体清 , , 洗的比较 [ 3, 4] , , [ 5] , , , ,