无机纳米聚酰亚胺复合杂化膜的绝缘特性的的研究.pdfVIP

无机纳米／聚酰亚胺复合杂化膜的绝缘特性研究 查俊伟h2。党智敏1’2 (1．北京化工大学化工资源有效利用国家重点实验室，北京100029； 2．北京市新型高分子材料制备及工艺重点实验室，北京 100029) 均匀的聚酰亚胺／纳米Ti0：复合杂化膜，研究了不同掺杂含量对杂化膜的介电、物理等特性的影响，建立了耐电 晕模型。同时通过FTIR研究其亚胺化程度以及用SEM分析纳米粒子在聚酰亚胺基体中的分散状态。结果表明， 纳米粒子在PI基体中分散均匀，TiO：的引入对杂化膜的介电常数、介质损耗因数、电气强度和耐电晕性能产生了 很大的影响，随着TiO：含量的增加，耐电晕性能得到大幅度的提高。TiO：25％含量时介电常数为5．1左右，介质损 耗因数在0．03以下，电气强度为110Mv／m，并在实验的基础上初步建立了耐电晕性能的老化机理。因此，在高耐 热性绝缘材料中均匀分散一些纳米无机粒子，可以大幅度提高抗高频脉冲尖峰电压和耐电晕等方面的性能。 关键词：耐电晕；聚酰亚胺；纳米杂化膜；介电性能 中图分类号：TM215．3；TQ323．7文献标志码：A 文章编号：1009—9239(2008)06—0004—05