低暗电流的正面进光高速InGaAs%2fInP光电二极管.pdfVIP

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  • 2018-04-01 发布于安徽
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低暗电流的正面进光高速InGaAs%2fInP光电二极管.pdf

2∞4牛B月埔 第十£目空∞匕自嘈■峥%自*,饿遵#^_龙q目.降*术々U ,臼寥九眉仝幽氍体硼.—‘学术分议 c; 3 光生载流子扩散到高电场区的时间ts: 4 探测器引线和封装的寄生电感和电容。在没计 时,应折衷考虑 1 和 2 ,因为减小渡越时间t。,要求减薄I层厚度d,而I层厚度d的减小 会导致结电容的增加,从而增大延迟时间tz;同时在确定吸收层厚度时还应考虑响应速度与光响应 度的折衷,因为I层厚度的减小在提高响应速度的同时,将引起探测器响应度的降低。在I层较薄, a 并且忽略延伸电极电容的情况下,探测器响应度下降3dB的频率f,m和响应度的乘积BWE:0.45 5×105cm,s”!,如果设表面反射系数R为0.推出常规PIN结构的BWE大约26GHz左右,可以满足 20~40Gbit/s传输速率要求。 3.21 1.79的透明介质,可以使R接近为0, 折射率 1 之间加厚度为I/4^,折射率n √ 1 但折射率为1.79的透明介质难以找到,且不容易与制造工艺兼容,我们采用两层与制造工艺兼容 的介质,已知该两层介质的折射率,可以计算出实现全增透所要求各层介质的厚度,同样可以达到 减小R使接近为0的目的。 探测器横向和纵向结构如图1和图2所示。 PD2日 叫鲷 撰毫 图1.探测器正面图形 图2探测器纵向结构 3,PIN探测器的制作 互连金属用Ti/

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