真空灭弧室弧后介质强度恢复的数学分析.pdfVIP

L 真空灭弧室弧后介质强度 恢复的数学分析 王承玉 顾冕鸿 电力科学研究院高压开关所 100085 摘 要 · 奉文通过测量真空灭弧室中屏蔽罩电位和恢复电压关系的动态受化波形，探讨真空灭弧 室在电流开断过程中弧后介质强度的恢复规律。在实验结泉的基础上、对真空灭弧室屏蔽罩 电位与恢复电压的关系进行了数学推导，从理论工证实了漠空灭弧室的宏观参数一一屏蔽罩 电位与弧后介质强度恢复过程的内在联系。 ／ 关键旗至灭弧室屏蔽罩电位陵复哩曼 ， 1． 引言 真空灭弧室在静态时，屏蔽罩电位由芭相对子阳嘎和阴极的固有分布电容决定。在毛流 开断过程中，由于电弧等离子体向触头间隙外的扩欹导致屏蔽置电位雯化(这个夏亿具有瞬 时．i,二D-j。因此可以通过测量屏蔽罩电位的动态要化波形束分析真空灭弧熏珂部弧后介质强度 的陵复过程。 2． 弧后介质强度恢复过程的试验波形 本试验采用文[11甲的真空灭弧室屏蔽罩电位测量万法。电源由合成司路提供，测量参 敛波形为恢复电压“A”和屏蔽罩电位“B一。 典型的试验波形如图l所示。 ■5000V且504 邶5如 I{}lI{}} i{I}{t!l、 L二生一i}!i}· {^fI}{!}l- l{ !Ii l}I ’：t＼．；{Ji；·I’ l：l -_B一；i}I} i}：＼}l，L 卜÷L叫＼}．r 。小；，丌1——一 !{’^、yi}，l Ny I：：飞／rI!·{： |1．：／‘i l}l i!： (口)d重16Inm“=14kA AIvlF触头，口85mm屏蔽罩 图J小直径屏蔽置时恢复电压和屏蔽罩电位波形．960mm withsmalldiameter Waveformsof andshieldpotential Fig．1 recoveryvoltage AFMcontact，2f85mmshielding) shielding(宙60mm 在开断电流较小时，真空灭弧室的恢复电压与屏蔽罩电位的波形基本一致；当开断电流 较大时，屏蔽罩电位的波形相对于恢复电压波形发生7畸变。这是残余等离子体的影响造成 的， 3． 真空灭弧室屏蔽罩电位与恢复电压关系的数学分析 所建立的模型如圈2所示。 ：：：：：；：：：：：：：：i 《釜．竖．． 薹黎!瞎 芝哥芝写!亭召 圈2．弧后发复过程的模型示圈 在真空灭弧室弧后介质强度嵌复迁翟皇，cA和cK受电极相对于屏蔽罩的位置影啊，对 一定的真空灭弧室芭们是不变的忑值：而车效电阻RA和RK是由于残余等离子体扩散形爱的； 因此，它们与弧后介质强度的恢复过程密切相关，扶而引起屏蔽罩电位波形的畸变。我们可 根据这种畸变