大数值孔径下的偏振成像分析.pdfVIP

第38卷第l2期 光电工程 、，01．38．No．12 2011年 12月 Opto—ElectronicEngineering Dec．2011 文章编号：1003—5OlX(2Ol1)12—0035—06 大数值孔径下的偏振成像分析 刘 勇1,2，邢廷文 ，杨 雄 (1．中国科学院光电技术研究所，成都 610209； 2．中国科学院研究生院，北京 100049) 摘要：光刻设备的分辨率越来越高，以满足集成电路特征尺寸不断缩小的要求。根据瑞利判据，可以通过缩小曝 光波长和工艺因子、增大数值孔径来提升光学投影光刻的分辨率。随着数值孔径的增加，光的偏振特性对成像的 影响越来越大。通过分析偏振光的成像特性，控制照明的偏振方向，可以延伸光刻的分辨率。运用光的干涉原理 分析 了偏振光影响成像质量的原因，结合阿贝成像原理与偏振的矢量特性对偏振光的成像进行了仿真，比较 了不 同偏振照明下的成像对比度及焦深。结果表明，对图形选取相应的偏振照明，可以改善成像质量。 关键词：偏振成像；大数值孔径；光刻 中图分类号：0436．1：0436．3 文献标志码：A doj：10．3969／j．issn．1003．501X．2011．12．007 AnalysisonHighNumericalAperturePolarizedImaging LIUYong1,2 XINGTing．wen ，YANG Xiong (1．InstituteofOpticsandElectronics，ChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China； 2．GraduateUniversityofChineseAcademyofSciences，Beijing100049，China) Abstract：Theresolutionoflithographyhasbecomehigherandhighertosatisfythedemandofthecontinuousreduction ofintegratedcircuitcriticaldimension(CD)．AstotheRayleighcriterion，theresolutionofopticalprojectionlithography canbeenhancedbyreducingthewavelength，loweringtheprocessfactorandenlargingthenumericalaperture A)．As NA becomeslarger,thepolarizationoflightaffectstheimagingmoresignificantly．Byusingthepolarizedillumination， theresolutioncanbeimproved．Thereasonwhythepolarizationoflightaffectstheimagingisanalyzedbyinterference principle．TheimagingofdifferentpolarizedlightissimulatedwiththeAbbe’Stheoryofimageformationandvector’S property．TheimagecontrastnadDepthofFocus(DOF)underdifferentpolarizationarecompared．Theresultshowsthat imagingperfomr ancecanbeimprovedbyoptimizingthepolarizationofillumination． Keywords：polarizedimaging；highNA；lithogra