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I艺技术研究
bTeSe
电化学沉积P一型Bi…S
薄膜温差电材料及相关性能研究
朱艳兵。王为+
(天津大学化工学院应用化学系.天浔t300072)
of Bi—
【摘要J采用控电位电沉积的方法制备了Bi—Sb-ThermoelectricalpropertiesP—type
Te—Se薄膜温差电材料。通过XRD、ESEM、EDS等方法
对电沉积薄膜材料的结构、形貌和组成进行了分 electrodeposition
析,并测试了在不同电位下制备的Bi-Sb-Te-Se薄 Yan—bingZhu,WeiWang*
膜的塞贝克系数及电阻率。结果表明,在含有B一、
Chemical and
TeH、Sbnl和Se¨的溶液中,采用控电位沉积模式,可 Engineering
311111)72,China)
以实现铋、锑、碲、硒四元共沉积,制备出Bi-Sb-University,Tianjin
AbStract:P—te Bi—Sb—Te—Se
Te-Se薄膜温差电材料。沉积电位对电沉积薄膜中 YP
C fiIms were
各元素的含量有显著影响。 组成为thermoelectri bY
PrePared
structures,
趴o.37Sbl.62Te2瑚Se019的电沉积薄膜的性能最佳,在氮electrodepositiontechnology.The
and ofthe
morphologies deposited
气环境下经2500C、2h退火处理后的塞贝克系数为 compositions
werecharacterized and
128 f.ilms byXRD,ESEMEDS,
ILV/K,功率因子为O.48mW·K~·m-l。
respectively.Seebeck
【关键词】电化学沉积;温差电薄膜;B1-Sb-
thefilmswerealsoevaluated.
Te—Se;性能 resistivities(P)of
接第120页
.Oniciu.etal.Influenceofmetall{c onzinc SOC.197l。l18:l538-1540.
impurities
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