电化学沉积p-型Bj-Sb-Te-Se薄膜温差电材料及其相关性能的研究.pdfVIP

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I艺技术研究 bTeSe 电化学沉积P一型Bi…S 薄膜温差电材料及相关性能研究 朱艳兵。王为+ (天津大学化工学院应用化学系.天浔t300072) of Bi— 【摘要J采用控电位电沉积的方法制备了Bi—Sb-ThermoelectricalpropertiesP—type Te—Se薄膜温差电材料。通过XRD、ESEM、EDS等方法 对电沉积薄膜材料的结构、形貌和组成进行了分 electrodeposition 析,并测试了在不同电位下制备的Bi-Sb-Te-Se薄 Yan—bingZhu,WeiWang* 膜的塞贝克系数及电阻率。结果表明,在含有B一、 Chemical and TeH、Sbnl和Se¨的溶液中,采用控电位沉积模式,可 Engineering 311111)72,China) 以实现铋、锑、碲、硒四元共沉积,制备出Bi-Sb-University,Tianjin AbStract:P—te Bi—Sb—Te—Se Te-Se薄膜温差电材料。沉积电位对电沉积薄膜中 YP C fiIms were 各元素的含量有显著影响。 组成为thermoelectri bY PrePared structures, 趴o.37Sbl.62Te2瑚Se019的电沉积薄膜的性能最佳,在氮electrodepositiontechnology.The and ofthe morphologies deposited 气环境下经2500C、2h退火处理后的塞贝克系数为 compositions werecharacterized and 128 f.ilms byXRD,ESEMEDS, ILV/K,功率因子为O.48mW·K~·m-l。 respectively.Seebeck 【关键词】电化学沉积;温差电薄膜;B1-Sb- thefilmswerealsoevaluated. Te—Se;性能 resistivities(P)of 接第120页 .Oniciu.etal.Influenceofmetall{c onzinc SOC.197l。l18:l538-1540. impurities

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