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基于包络线法的薄膜光学常数分析.pdf
第 卷第 期 武汉理工大学学报 信息与管理工程版
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基于包络线法的薄膜光学常数分析
夏志林 薛亦渝 赵 利 张幼陵
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武汉理工大学 材料科学与工程学院 湖北 武汉
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摘 要 用电子束反应蒸发法制备了 薄膜 以折射率和消光系数为主要性能指标 通过正交实验法确定
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了得到较优光学性能的工艺搭配 分析了基片温度 沉积速率和真空度对 薄膜光学性能的影响 并通过
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所开发的膜系设计软件分析了在最佳工艺条件下制备的 薄膜的透射率 用包络线法计算出了薄膜的折
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射率 厚度以及消光系数 与实测值有很小的差别 可以证明实测结果的正确性
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关键词 电子束反应蒸发 薄膜 光学性能 光学常数 包络线法
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中图法分类号? BIB’B 文献标识码?
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引 言 自制软件的分析 用包络线法推算出了该薄膜的
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折射率 厚度及消光系数值 与椭圆偏振仪 晶振
膜是一种比较优良的光学镀膜材料 其 G D D
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仪测量结果有较好的一致性F
K+L
表现主要在于折射率高和稳定性好 在可见光
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区和近红外区呈透明 有 种相结构 即金 实 验
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