ICPOES在测定三氯氢硅中硼磷含量的应用.pdfVIP

第 期 中国氯碱 7 No．7 38 年 月 2009 7 China Chlor－Alkali Jul．,2009 ICP- OES 在测定三氯氢硅中 硼磷含量的应用 李 新 （昊华宇航化工有限责任公司，河南 焦作 454001 ） 摘 要：介绍了采用 ICP-OES 测定三氯氢硅中硼、磷含量的原理及测量方法，试验结果表明，本方法 灵敏度高、可靠性好、操作简单，可取代ICP-MS 。 关键词： ；三氯氢硅；硼、磷；应用 ICP－OES 中图分类号： + 文献标识码： 文章编号： TQ056.1 6 B 1009－1785(2009)07－0038-03 Brief introduction of application of ICP-OES in content determination of boron and phosphorus of trichlorosilane LI Xin (Haohua Yuhang Chmeical and Industry Co., Ltd., Jiaozuo 454001, China) Abstract: The principles and determination method of contents of boron and phosphorus in trichlorosilane with ICP -OES were introduced. The determination method can replace ICP -MS with some advantages, including high sensitivity, feasibility and simple operation. Key words: ICP-OES; trichlorosilane; boron; phosphorus; application 随着我国经济的飞速发展， 各地纷纷扩建三氯 处理和测定的方法，供大家探讨。 氢硅项目。 由于相关产业对三氯氢硅的质量要求越 1 试验装置及试剂 来越高，即使含有少量的杂质（包括硼、磷、镍、锰 1．1 仪器 等），也会对硅的电学性能产生严重影响，在生产过 仪器为 ， ， Prodigy ICP－OES LEEMAN LABS INC． 程中，对三氯氢硅中杂质的测定非常重要。 美国利曼公司生产。 由于目前国家还没有针对工业三氯氢硅产品中 试样处理装置见图 。 1 硼、磷等杂质的分析标准，加上磷、硼等元素的离子 发射谱线波长较短， 分析谱线均在250 nm 以下，属 于近紫外光区范围，给仪器分析带来一定难度。各生 产厂家和使用厂家均使用各自的企业标准， 分析方 法也不尽相同且较为保密，造成分析数据相差较大， 给硼、磷杂质的测定带来随意性和不统一性。 经过反复试验， 笔者总结出一套三氯氢硅试样 !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 3 结语