a-CH膜化学结构对光学性能的影响.pdf

第21卷第3期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．21．No．3 H1GHPOWERI。ASERAND BEAMS 2009年3月 PARTICI。E Mar．，2009 文章编号：1001—4322(2009)03—0350—05 Q—C：H膜化学结构对光学性能的影响。 刘兴华1’2， 吴卫东2， 何智兵2， 张宝玲2， 王红斌2， 蔡从中3 (1．重庆大学输配电装备及系统安全与新技术国家重点实验室，重庆400044； 2．中国工程物理研究院激光聚变研究中心。四川绵阳621900I3．重庆大学数理学院，重庆400044) 摘 要： 选用体积分数为99。9999％的H。及反式一2一丁烯(T2B)为工作气体，利用低压等离子体增强化 学气相沉积法制备了a-C；H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和x射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结 构进行分析，并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3／sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数。结果表明；薄膜中 氢含量较高，主要以sp3C—H形式存在；工作气压越高，制备的薄膜中C=C键含量越少，薄膜中sp3／sp2杂化 1000 键比值和sp3C杂化键分数增加，薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪，获得了波长在400llm范围 Pa 内薄膜的光吸收特性，结果显示：rC：H薄膜透过率可达98％。光学常数公式计算得到工作压强为4～14 时光学带隙在2．66～2．76之间，并均随着工作气压的升高而增大。结果表明，随工作气压的升高。薄膜内sp3 键减小，从而促使透过率、光学带隙增大。 关键词：a-C：H薄膜，化学键；透过率； 光学带隙}低压等离子体增强化学气相沉积法 中图分类号：0484．41 文献标志码： A 非晶碳氢a—C：H薄膜是具有亚稳态非晶结构的薄膜材料，具有许多类似金刚石的优异特性，特别是在光 学性能方面具有折射率低、透光性强和紫外强吸收特性等特性，可作为红外光学玻璃保护膜、太阳能电池的减 反射涂层以及用作保护膜u]。在激光惯性约束聚变(ICF)靶物理基础实验研究中，由于a—C：H薄膜具有耐高 温、物理强度较大等特点，许多靶型都将含有a—C：H薄膜作为烧蚀层材料[2]。目前国内外实验要求制备出a— C；H薄膜厚度大于100肛m，表面光洁度较高，膜层结构致密，但是a-C；H膜成膜机理十分复杂，工艺参量对 然国内外研究人员开展了一些工作，但是在许多方面还缺乏深入分析，因此，通过研究压强对薄膜化学键结构 的影响来表征光学性能，从而全面了解e-C：H薄膜具有很重要的意义。 本文采用低压等离子体增强化学气相沉积(LPPCVD)方法制备了a—C；H薄膜。对薄膜的傅里叶变换红 000 nm范围内薄膜的光吸收特性。考察了工作气压对a—C：H薄膜化学结构及光学性能的影响，并根据a—C：H 薄膜的反应沉积机理对薄膜结构和光吸收特性的进行分析，由此探讨了薄膜光学性能随化学键结构变化的内 在原因。 1 实验方法 本文采用LPPCVD法制备口一C：H薄膜。其实验装置在文献[5]已做了详细介绍。实验选用体积分数为 99．999 9％的H：及反式一2一丁烯(T：B)为工作气体，其流量由MksType247型质量流量计精确控制。衬底采 rain，然后用无水乙醇、丙酮超声清 用硅、石英片，沉积前先在去离子水中用超声波清洗仪清洗2次。每次15 Pa。实验前，基片用氢离子 洗，以除去表面的有机污染和灰尘，经吹干后迅速放入真空室中，抽真空至约10_5