Ni-Mn-Ga磁控溅射靶材合金制备及性能.pdf

材料与结构 Matedalsand Structures Ni—Mn—Ga磁控溅射靶材合金制备及性能 陈峰华，张敏刚， 柴跃生，杨利斌，熊 杰 (太原科技大学材料科学与工程学院，太原030024) 摘要：根据Ni—Mn—Ga合金靶材在磁控溅射过程中各元素溅射产额和靶材成分的不同，对薄膜成 分的影响进行了分析，从而制备了马氏体转变温度高于室温的Ni；，Mn：¨Ga2。，靶材。针对目前 射峰进行标定。由于差示扫描量热仪(DSC)不容易对薄膜进行相转变温度测定，提出了利用马 氏体与母相磁性能的磁矩与温度(胁T)曲线来测定薄膜的相转变温度，并对合金进行了验证。 居里温度约为450 K的合金的制备，为进一步探索薄膜成分对磁性能的影响提供了实验依据。 关键词：薄膜成分；马氏体类型；相变温度；磁控溅射；溅射产额 andPerformanceofthe Preparation Ni-Mn-Ga Magnetron Material SputteringTarget Alloy Chen Fenghua，ZhangMingang，Chai Jie Yuesheng，YangLibin，Xiong MaterialsScienceand (Collegeof Scienceand Engineering，TaiyuanUniversityof Technology， 030024，China)； Taiyuan tOthedifferenceofthe and material for Abstract：According sputteringyield target composition thevariouselementsoftheNi—Mn-Gamaterialsinthe of target alloy processmagnetronsputte- effectofthethinfilm was the were ring，the compositionanalyzed，andNi55Mn24．5Ga20．stargets martensitictransformation the of is prepared．The temperatureNi55Mn24．5Ga20．5targetshigher thantheroom thestandardfortheNi—Mn—GamartensitePDFcard，the temperature．Without diffractionwas calibrated thesimulationand the preparedalloyX—ray peak byusing