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2015-09-29 发布于湖北
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双槽电沉积法制备CuAg纳米多层膜.pdf

双槽电沉积法制备Cu／Ag纳米多层膜顾超1，朱宏喜1。任凤章1一。王姗姗1，肖丽丽1 (1．河南科技大学材料科学与工程学院，洛阳471003； 2．河南省有色金属材料科学与加工技术重点实验室，洛阳471003) [摘要] 双槽电沉积法制备了不同调制波长的Cu／Ag金属多层膜(Cu膜和Ag膜等厚)，用扫描电子显微镜观察了多层膜的层状结构，并研究了不同调制波长下多层膜的显微硬度变化。结果表明：双槽电沉积法制备的 nm时， nm时，显微硬度随调制波长减小而增加；当小于100 Cu／Ag多层膜层状结构明显。当调制波长大于i00 硬度随调制波长减小而降低；调制波长为100rim时，显微硬度取得最大值，为150HV。 [关键词]Cu／Ag多层膜；双槽电沉积法；显微组织；显微硬度 [文献标识码]A [中图分类号]TQl53．1+4；TQl53．1+6 of Nanoscale inaDualBath ElectrodepositingPreparationCu／Ag Multilayers 1 Li·li GUChao1，ZHU 1，REN 1’2，WANGShan—shah1，XIAO Hong—xi Feng—zhang of Scienceand of (1．SchoolMaterials Engineering，HenanUniversity Scienceand 471003，China； Technology，I。uoyang 2．Henan ofAdvancedNon～ferrous 471003，China) Laboratory Key Metals，Luoyang nanoscale were ina dualbath．Cross—sectionalwas [Abstract]Cu／Ag multilayerspreparedbyelectrodeposition observed electron thevariationofwithmodulation wasalso byscanning microscope，and wavelength that hasclearlamellarstructure．Whenthemodulation is resultsindicate nanoscale a Cu／Ag muhilayers wavelength thanlOOnm，themicrohardnessincreaseswiththedecreaseofmodulation lessthan100nm， greater wavelength，and themicrohardnessdecreaseswiththedecreaseofmodulation microhardnessiSabout