等离子体环境下模板制备纳米点阵的理论的研究.pdfVIP

摘 要 等离子体环境下模板制备纳米点阵的理论研究 摘 要 本论文主要理论研究了在低温等离子体环境下，利用各种纳米 结构模板，通过沉积以及刻蚀的方法，制备金属以及介质纳米结构 过程中各实验参数对最终结果的影响。研究的主要内容以及对应成 果集中于以下三大方面： (1) 这部分工作主要是理论研究了在低温等离子体环境下 （拥有基本典型的电子温度以及等离子体密度），利用纳 米孔洞模板，在高掺杂硅衬底上沉积金纳米点阵的过程。 通过理论计算在等离子体鞘层、纳米孔洞附近以及纳米 孔洞中的离子轨迹，我们能够得到相应的三维离子流分 布。结果显示，通过调节电子温度，外加偏压以及纳米 孔洞模板的结构，人们可以有效地控制离子流，并最终 增强离子沉积到孔洞底面的概率，减小离子到达孔洞侧 壁的概率以防止孔洞的最终堵塞。 (2) 这部分工作阐述了利用纳米孔洞模板等离子体沉积介质 材料过程的理论模拟工作。当离子离开等离子体进入鞘 层时，我们