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锡钛复合氧物光催化性能研究

锡钛复合氧化物光催化性能研究 摘要 近年来,Ti02作为一种用途很广的半导体材料,因其活性高、稳定性好、对 人体无毒、成本低且在光催化处理污染水和空气中已广泛应用,而成为最具潜力 的光催化剂。然而TiO:本身有其固有的缺陷,光生电子一空穴对容易复合,这降 低了其光催化活性。因此,要提高Ti0。的光催化活性,就应减少光生电子与空 穴的复合。其中将TiO:与其它氧化物半导体复合可能是提高其光催化活性途径 之一。Ti02和Sn02都是有金红石型的晶体结构,但是性质差别很大,这两种半 导体材料能级匹配,光生电子和空穴可以发生有效的分离,使它们复合几率减小, 从而可以提高Ti0。的光催化活性。本文主要研究内容如下: 1.利用溶胶一凝胶法合成了Sn。Ti。.102复合氧化物,考察了不同退火温度和不同 的锡含量对材料晶型的影响。采用x一射线衍射(XRD)对合成材料进行了分析表 征。结果表明,Sn。Ti,,02复合氧化物中锡促进了二氧化钛中锐钛矿相向金红石相 的转变,但锡的加入能抑制材料颗粒的生长,TEM表征说明Sn。Ti。,02复合氧化物 的粒径比纯Ti0:的粒径要小。 2.利用亚甲基蓝水溶液和中性红水溶液两种偶氮染料对合成的材料进行了光催 化活性测试,测试结构表明,Sn。Ti.o:复合氧化物的光催化活性比纯TiO。的光催 化活性要好;并且随着Sn。Tih0:复合氧化物中锡的量的不同其催化活性不同, 优化了具有最佳催化活性材料的制备条件。另外,光催化实验说明,相同的材料 催化不同的染料时,其光催化活性不同,这与其被降解的染料的结构有关。 3.考察了薄膜的光学带隙宽度,利用紫外一可见光谱对薄膜的吸收进行了分析表 征。分析结果说明:随着煅烧温度的增高,Sn。TihO:混合结构薄膜的带隙宽度逐 渐减小;在相同条件下制备的材料,随着Sn。Tih0:复合薄膜中锡的量的增加, 其带隙宽度是呈现减小趋势的。 关键词:锡钛复合氧化物,溶胶一凝胶法, 光催化, 光学带隙,染料 中图分类号:TQ.1588 V11 studiesof photoc—atalyticactiVi坶ofSnxTil.x02 composite oxides AbStraCt mrecent beena f.0rme years,titallium dioxide(Ti02)haspopularphotocatalyst trea恤ent of and have organicpollutants缸waterair.HoweVer,Ti02 p怕tocatalysts 觚i1111erentaIld drawrback;that ca蹦erS si嘶ficant is,mephotogeIleratedcharge (1101e—elec缸.0n increaSethe pairs)c锄recombiIIe.Therefore,to photocatal如cactivity of is todecreaSet!herecombiIlation Ti02,it of

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