老炼对pdp放性能及mgo介质保护层的影响.pdfVIP

摘要 等离子体显示器在信息显示领域具有广阔的应用前景及市场，开展彩色PDP关键技术的研究对 于提高PDP性能有着重要意义。在PDP制造过程中，老炼过程是介于显示屏加工完成和实现显示之 间的一项非常重要的工序步骤。老炼能使PDP的各种放电特性稳定，并且易于驱动。而PDP中的 MgO介质保护膜，由于直接和放电气体接触，对PDP的放电特性、显示效果和寿命等性能有重要 的影响。因此，研究老炼对PDP的放电性能和MgO介质保护层的影响，对于提高PDP性能，降低 PDP的成本和功耗，具有较大的实用价值。 本文首先建立了荫罩式PDP(SMPDP)实验屏的老炼系统和初步的老炼实验规范，研究了老炼 过程对荫罩式PDP实验屏放电性能的影响。主要分析了SMPDP实验屏的静态放电电压特性、发光 亮度、发光光谱和红外放电在老炼前后的变化。 本文还介绍了MgO介质保护层的制备工艺和其在PDP中的性能。经过长期研究总结，初步建 立了MgO介质保护层的评价体系并介绍了各项性能的测试方法。 验屏中MgO介质保护层在老炼后的薄膜晶体结构和表面形貌的变化。为了更方便深入研究MgO介 质保护层的表面晶向在老炼后的变化，设计制作了一种大面积放电老炼实验屏，对其老炼前后的 MgO介质保护层进行了掠入射X射线衍射(G