壁面特性对径向三重流MOCVD反应器壁面温度分布影响.pdfVIP

第 卷 第 期 半 导 体 学 报 年 月 壁面特性对径向三重流反应器 壁面温度分布的影响 刘 勇 聂宇宏 姚寿广 江苏科技大学机械与动力工程学院镇江 摘要分别采用透明体模型黑体模型灰体模型三谱带漫反射模型三谱带镜反射模型和二谱带模型对石英壁 面的辐射特性进行模拟并结合求解辐射传递方程的谱带区域法模型计算了不同壁面特性下径向三重流 反应器的壁面温度分布 结果表明不同的壁面特性模型对 壁面温度的分布有较大影响其中 壁面发射率的影响最大而透射率的影响较小在反应器的不同部位壁面特性模型对温度分布影响的规律不同 关键词石英辐射特性壁面温度影响 中图分类号 文献标识码 文章编号 将这些模型与壁面间的辐射换热模型相结合计算 引言 了在不同壁面特性下径向三重流 反应器 的壁面温度分布为进一步更为准确地模拟 氮化物半导体材料主要是在金属有机化学气相 反应器内的温度流动浓度等的分布提 沉积 反应器内生成的 就是其中的 供依据 代表 在 内的生长温度在 左 右而最佳的生长温度为 在最佳生长温 石英壁辐射特性模型 度附近对 的物理和化学形态的研究引起了研 究者的广泛关注 自上世纪 年代以来国外科研 石英的辐射特性为吸收和发射的光谱性以及镜 人员利用计算机数值模拟和光学测量等方法对 面反射不同温度下石英壁的辐射特性如图 所