第七章金属转化膜技术摘要.ppt

7.4 等离子体微弧氧化 等离子体微弧氧化简称微弧氧化，它是一种直接在铝合金、镁合金和钛合金等金属表面原位生长陶瓷层的新技术。 采用该技术可制备厚度达10~200微米的高强度、高结合强度、低孔隙、具有瓷质感的氧化膜，其耐蚀性和耐磨性都很好。由于该法操作方便，工艺稳定，效率高，并且无污染，已引起人们的广泛关注。 7.4.1 微弧氧化原理 微弧氧化就是把铝、镁、钛、锆、钽、铌等有色金属或合金置于电解液中作为阳极，以不锈钢作阴极，利用高压下电解液中的气体电离产生微弧放电，在热化学、等离子体化学、电化学、高温氧化等反应作用下，直接在有色金属表面原位生成陶瓷膜，从而提高其耐腐蚀、耐磨损、绝缘性、抗高温氧化性能和生物活性等的技术。 微弧氧化技术是在阳极氧化的基础上发展起来的，其过程包括电化学反应和等离子体化学反应。 在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能全面描述陶瓷层的形成。 电解液中的氧离子和其他离子也通过放电通道进入到微弧区，和熔融的基体发生等离子体化学反应，反应产物沉积在放电通道的内壁上。随着微弧继续在试样表面其他薄弱部位放电，均匀的氧化层逐渐形成。 7.4.2 微弧氧化装置及工艺 微弧氧化装置主要由专用高压电源、电解槽、冷却系统和搅拌系统组成。 微弧氧化法制备陶瓷膜的工艺流程一般为：表面清洗→微弧氧化→自