单晶硅制绒溶液使用时间与金字塔尺寸、反射率之间的关系研究.docVIP

单晶硅制绒溶液使用时间与金字塔尺寸、反射率之间的关系研究 　　摘 要：本文给出了单晶硅制绒基本机理，分析了在稳定的制绒工艺下，单晶硅制绒溶液使用时间对硅片表面金字塔尺寸、反射率的影响。通过对比实验，采用扫描电子显微镜（SEM）观察、D8积分式绒面反射仪、电子称与秒表来分析研究制绒溶液使用时间与实验硅片表面金字塔尺寸、反射率的关系，最终结论为制绒溶液在连续生产状态下，随着制绒溶液使用时间的延长，硅片表面金字塔尺寸变大，反射率提高。连续生产状态下，制绒溶液的最佳使用时间为8小时，极限使用时间为16小时。 　　关键词：单晶硅；金字塔尺寸；反射率；溶液使用时间. 　　中图分类号：TU 43；O344 文献标识码：A 　　单晶硅制绒通常使用无机碱性溶液来腐蚀单晶硅片[1]。在较高温度下，碱性溶液与硅会发生如下化学反应：Si+2OH-+H2O=SiO32-+2H2↑ 　　由于单晶硅的特殊晶体结构，利用碱性溶液对单晶硅片的各向异性腐蚀特性，（100）晶面的单晶硅片经碱性溶液的各向异性腐蚀后最终在表面形成由（111）面组成的四方锥体，即为“金字塔”结构[2]。各向异性腐蚀是指硅的不同晶向具有不同的腐蚀速率[3]。晶体硅的（100）面与（111）面腐蚀速率之比称为各向异性因子[4]。在较低浓度的碱性溶液中单晶硅（100）面和（111）面腐蚀速率的差别较大，（100）面的腐蚀速率是（