硅锆复合膜的制备与表征.pdfVIP

v0120 第20卷第3期 高校化学工程学报 No_3 2006年6月 Joumal ofChimseUIliv目sit洒 June2006 ofChcmic叫Enginocring 文章编号：100303-0443．06 硅锆复合膜的制备与表征 张宝采，张宝凤，徐黎明，刘秀凤 (天津大学化工学院，天津300072) 摘要：以硝酸锆为前驱体，二氧化硅为晶型稳定剂，采用溶胶．凝腔法在多孔氧化铝载体上制各了无缺陷的硅锆复台 析和表征。实验结果表明，硝酸锆比氧氯化锆更适台作前驱体，可获得均匀分布的稳定溶胶；当二氧化硅含量为25％ (摩尔百分数)时，可以得到平整无缺陷的硅锆复合膜；焙烧过程中．不同升温区间须采用不同的升温速率，以防止膜 的开裂；由于二氧化硅与氧化锆间的相互作用，抑制了氧化锆晶型的转变，同时也提高了二氧化硅的晶化温度。硅锆 复台膜在700曲00℃范围内保持单一的氧化锆四方晶型．晶粒大小几乎不随温度变化，具有益好的热稳定。 关键词：硝酸锆；硅胶：溶胶．凝胶法；复台膜；热稳定性 中图分类号：064s 8 文献标识码：A 22；TQl7475811；TQ028 and of CharacterizationSiIica-zirconiaMemb阳Ⅱes Preparation Composite ZHANG ZHANG LIU Bao—quaIl， Bao疵n舀)(【JLi_ming， Xiu—feng ofchemical (school Engineermg锄d TecIlllolo船Ti姐jinUnivers吼Ti柚jill300072，china) Abstract：Thcdefect一丘ee siIica_zirconia metllod．Thcsurfhcc compos沁membraI】ew嬲prepa陀dbysol-gel sizcdis仃iblltiona11d s仉l咖reofthemcmbr蛐were morpholo跚pofe crystal inves廿ga士ed by1lsing aIlddi舵fent瑚thcnnal thermo酎avime埘caIIal”is analysis汀GA．D1-A)，x-ray dimac廿on(Ⅺ①)，g嬲 adsorption elec订on elec仃on aIlalyzer(BET)，sc蚰ningmicroscopy(sEM)，订锄smission mi盯oscopy(TB№锄d 砒omicforce z打coniumni廿ateismoresunablet0belIsed鹅thc thall