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共沉淀法可避免引入对材料性能不利的有害杂质

奈米材料製備方法(續) 4-6沉澱法 4-7氣體冷凝法 4-8水熱法 4-9溶劑揮發法 4-10真空蒸鍍法 4-13電漿法 4-14濺射法製備奈米材料 4-6沉澱法 沉澱法主要包括共沉澱法、均勻沉澱法、多元醇為介質的沉澱法、沉澱轉化法、直接沉澱法等。其中在含有多種陽離子的溶液中加入沉澱劑,使金屬離子完全沉澱的方法稱為共沉澱法。共沉澱法可製備 BaTiO3 、 PbTiO3 ,等 PZT 系電子陶瓷及ZrO2等粉體。 與傳統的固相反應法相比,共沉澱法可避免引入對材料性能不利的有害雜質,生成的粉末具有較高的化學均勻性,粒度較細,顆粒尺寸分佈較窄且具有一定形貌。 4-6沉澱法 沈澱法原理: 在含有金屬離子的溶液,利用簡單的化學還原方法,在溶液中可得到還原後的懸浮金屬粒子,由於金屬微細粒子之問包含了凡得瓦力、磁力等作用力,經一段時間後,可以發現金屬粒子之間有明顯聚集的現象,為了避免此種情形,在這個步驟中我們必須添加一些高分子,使金屬粒子和高分子產生配位,達到穩定的效果,如圖4-22所示。 4-6沉澱法 接下來控制溶液的PH值,使金屬粒子與高分子一同沈澱下來,經過離心之後,即可得到奈米級的金屬粒子。以下舉幾個例子,說明以沈澱法製備奈米金屬粒子。 4-7氣體冷凝法 氣體冷凝法係材料經過加熱處理後,原子間的距離會脫離原本的相態,會各自分離蒸發到空氣中呈現氣態,利用特殊的凝結法,使材料經過降溫但設法讓這些分子或原子的材料不至於太大,如此一來就可以得到我們所謂的奈米材料。其特點純度高、結晶組織好、粒度可控,但技術設備要求高。 4-8水熱法 水熱法是一種在密閉容器內完成的濕化學方法,與溶膠凝膠法、共沉澱法等其他濕化學方法的主要區別在於溫度和壓力。水熱法研究的溫度範圍在水的沸點和臨界點(374℃)之間,但通常使用的是130~250℃ 之間,相應的水蒸汽壓是 0.3~4 MPa 。與溶膠凝膠法和共沉澱法相比,其最大優點是一般不需高溫燒結即可直接得到結晶粉末,從而省去了研磨及由此帶來的雜質。 4-8水熱法 水熱法原理 水熱反應通常是在壓力釜(autoclaves)中進行,主要是一種溶解-析出的反應,而反應的步驟主要包含水解( hydrolysis )和脫水( dehydration )之程序,以金屬硝酸鹽為例,其反應過程如下所示: 4-8水熱法 水熱法合成的粉末則具有下列獨特的優點: 1.粒徑微細且均勻,可達到次微米(1m)的等級;具有高度的燒結活性,可大幅降低後續燒結製程之燒結溫度。 2.合成粉體的結晶性較佳且化學組成均勻。配合適當的乾燥方法,即可得到所需的粉體,大幅簡化了粉體的製程,且減少合成步驟中,粉體遭受污染的可能性。 3.反應溫度低,反應時間短,合成粉體的晶粒大小可控制,比固相反應節省更多的能源,符合現今的環保要求。 4-8水熱法 水熱法分類 水熱氧化 水熱沉澱 水熱合成 水熱還原 水熱分解 水熱結晶 4-8水熱法 表4-7為各製程的比較總結,可以看出水熱法合成的粉末,在純度、組成控制、晶形控制上具有相當的優勢,且利用水熱法,可以合成: (1)多成分組成的氧化物,如 BaTiO3、 PZT 等鐵電材料,鐵鋇氧磁粉等磁性材料。 (2)中間相,此中間相為介穩態化合物,適用傳統燒結等方法所不易得到的。以水熱法控制製程參數,可使所需要的中問項產物在水熱系統中符合熱力學的最穩定性態而析出,得到所需要的中間相。 4-9溶劑揮發法 溶劑揮發法就是利用物理方法將溶劑脫除、溶液濃縮而使之析出溶質的方法。濃縮後的乾燥方法通常有:加熱噴霧乾燥法及在真空中進行的凍結乾燥法。 4-9溶劑揮發法 而冷凍乾燥法則是把含有金屬離子溶液霧化成微小液滴,並且快速凍結成固體,然後加熱讓凍結液滴裡的水分汽化,以形成只有溶質的無水金屬襲,進而熔燒合成超微粒粉體。冷凍乾燥法的優點為 (1)產量大,適用於大型工廠製造超微粒子。 (2)設備簡單、成本低。 (3)粒子組成均勻。 4-10真空蒸鍍法 4-13電漿法 4-13電漿法 對於製備奈米材料而言主要是針對由離子高速撞擊所噴濺出的表面原子進行探討。原子的大小只有數 A ,進行反應時可以藉由反應條件的控制在基材上長出厚度在奈米尺寸的薄膜,稱為非均相成核;或是在沒有基材的條件下讓電漿中的原子濃度處在超飽和的狀態,如此一來,氣體分子會因為在氣相中的碰撞機率增加而相互結合形成奈米微粒,此現象稱為均相成核。 4-13電漿法 自 1988 年起美國環保署即開始從事以非熱電漿( Non-Thermal Plasmas , NTPs )方式去除氣態毒性物質及揮發性物質的研究,其主要的目的是欲發展建立一套低成本和低操作費用,並可於常壓下進行之先進空氣污染控制技術。近來,利用氣體游離(電漿)的原理以氣態氧化法去除氣態

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