薄膜技术中文版03蒸发镀膜.pdfVIP

薄膜技术—3 蒸发镀膜技术 主要内容 • 蒸发理论 –基本概念 – 如何控制膜厚 – 如何控制薄膜成分 – 如何控制薄膜纯度 • 蒸发种类 – 蒸发源 蒸发沉积 • 原理 –利用物质在高温下的蒸发现象 • 初始应用 – 防止光学透镜反射而在武器用光学透镜表面沉 积氟化镁 为什么真空蒸发? 为什么真空蒸发? • 减少杂质气体分子与蒸发气体/薄膜表面的碰撞， 减少薄膜的污染 D     L  蒸发物分子发生碰撞的百分数 1e     D—蒸发源到称底直线距离 L气体分子平均自由程 • 真空度10-2 ~ 10-4 Pa 蒸发系统 • 真空罩、蒸发源、基片架、挡板、膜厚监控装置 １．蒸发基本概念 1. １蒸发速度 • 蒸发速度定义 –单位时间，蒸发源单位面积蒸发的分子数 dN (分子数 / cm 2 s) A dt e 蒸发的关键控制因素是什么? 1. １蒸发速度？ • Herz-Knudsen公式 α—介于0~1之间系数 dN N A p e p h   P —平衡气压 A dt 2MRT e e p —实际分压 h dN N A p e  1, p h 0 max A dt 2MRT e １.2 饱和蒸汽压 dpe H • Clapeyron方程 dT TV